山口佳一
,
征矢野晃雅
,
島基之
影像科学与光化学
光刻技术在半导体器件大规模生产中发挥重要作用.今天,多数先进半导体生产都已经应用ArF准分子激光浸润光刻技术.双重图像曝光和侧壁图像转移技术使ArF准分子激光浸润光刻技术延伸到32纳米半节距(HP)器件的制造成为可能.为了制造更小尺寸的器件,必须开发新的制造工艺.极端紫外线光刻是制造22纳米半节距甚至更小尺寸半导体器件的先进下一代光刻技术解决方案.另外,其他技术解决方案,如纳米压印光刻技术和无掩模直描光刻技术等也被考虑用于制造更小节点尺寸的器件,但是目前这些方案仅仅处在研发阶段,而且在现阶段就已经呈现出在大规模生产中的诸多困难.本文从材料的角度对光刻技术进行一个整体描述,并对光刻技术未来趋势进行讨论.
关键词:
光刻技术
,
纳米器件
,
分辨力增强
,
光刻胶材料
高松波
,
李艳秋
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2008.02.018
针对45nm节点的需求,系统分析和研究了该节点不同周期图形的成像规律,并采用了不同的分辨率增强技术进行对比研究,从中分析出最适合45nm不同周期图形的光刻方案.采用了传统的离轴照明技术及新照明方式进行对比,并结合交替式相移掩模、衰减式相移掩模及传统二元掩模进行分析,探讨了45nm节点不同周期图形的可实现性.通过优化光源参数,采用Y偏振,对比不同分辨率增强技术的组合,得出结论,采用双弧带照明,对于Y向Line/Speae图形,其焦深,对比度等参数均可满足45 nm节点需要.最后通过双底层抗反射层(DBARC)优化,减小了底层反射率,有效地降低了摇摆效应,提高了z向图形保真度.
关键词:
分辨率增强技术
,
离轴照明
,
相移掩模
,
偏振
赵艳伟
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20112606.0823
针对高分辨率真实感的虚拟环境及场景浏览时变焦观察的需要,研究了基于图像的高分辨率场景生成技术.图像分辨率增强技术是指利用已采样的信息来重新构建分辨率更高的场景图像,包含单帧图像的分辨率增强和多帧图像序列的分辨率增强两种技术.对于单帧图像的分辨率增强技术,提出了一种基于熵变分的图像分辨率增强算法.该算法在贝叶斯估计和最大熵原理的基础上,将图像像素点梯度信息应用到图像分辨率增强中,从而建立起一种基于图像梯度信息的各向异性自适应分辨率增强算法.对于多帧图像序列的超分辨率复原技术,在单帧熵变分模型的基础上,将双边滤波技术引入到图像超分辨率复原中,建立了一种基于广义熵变分的图像超分辨率复原模型,提出了一种基于几何距离和梯度信息的双重加权各向异性分辨率增强算法.实验结果表明:使用本文算法得到的高分辨率复原图像具有较高的峰值信噪比和视觉质量,与传统图像分辨率增强算法相比具有一定的优势.
关键词:
高分辨率
,
单帧图像
,
多帧图像序列
,
双边滤波
,
信噪比
周宏潮
,
王正明
量子电子学报
doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2006.02.002
研究了基于稀疏型先验的光学及SAR图像的分辨率增强的统一框架.在定义稀疏型先验的基础上,分析了稀疏型先验与分辨率增强的关系,并从参数估计的角度解释了为什么稀疏型先验的合理利用可以实现分辨率增强.其次给出了光学及SAR图像的统一观测模型.再次给出了光学及SAR图像先验模型的统一描述.最后给出了光学及SAR图像分辨率增强的目标函数构造的统一形式.并结合光学图像和SAR图像,在不同数据域的先验信息,分别构造各自的目标函数,实现图像分辨率增强.
关键词:
图像处理
,
稀疏型先验
,
分辨率增强
,
SAR
,
参数估计
邓建青
,
刘晶红
,
刘铁军
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20122701.0114
由于航空光电设备造价与体积等的限制,需要在不改变航空光电设备硬件结构的前提下,获取尽可能清晰的图像或视频.文章提出了基于DSP图像处理系统的超分辨率重建方法,首先利用Fourier-Mellin变换法和Keren算法的联合优化算法进行运动估计；然后利用基于边缘保持的凸集投影简化方法进行超分辨率重建；最终结合DM642的特征,在不降低精度的前提下,对算法进行优化实现.该方法在不增加系统结构体积和成本的前提下,有效地提高了成像系统的分辨力,进而提高系统的目标识别能力.在以DM642为核心嵌入式图像处理平台中实现超分辨率重建实验,所采用的相机分辨率为720×576,整个重建的时间由传统的几分钟甚至几十分钟下降至20 s左右.实验结果表明,用本文方法重建出的图像细节明显比单帧插值的图像清晰,图像的平均梯度和信息熵有了明显提高.
关键词:
超分辨率
,
DSP
,
图像处理系统
,
图像重建
黎午升
,
惠官宝
,
崔承镇
,
史大为
,
郭建
,
孙双
,
薛建设
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20142904.0544
实现高PPI(单位面积像素个数),需要更细的线宽和更窄的间距,这往往受到光刻设备解像力的限制,本文对基于不改造镜像投影曝光设备而提高光刻解像力进行研究.用半导体工艺模拟以及器件模拟软件模拟分析了离焦量为0时,相位移掩膜和传统掩膜下2.5 μm等间隔线的光强分布.根据设备参数模拟分析离焦量为15、30 μm时通过掩膜得到的光刻间距情况,最后,实际比较测量了相同条件下各自曝光剂量范围和切面坡度角.实验结果表明:相位移掩膜能使镜像投影曝光机分辨力以下间距(线宽)的工艺容限增大1倍,并使相应曝光量下间距(线宽)的分布更集中,从而增加细线化的稳定性.使用相位移掩膜能提高镜像投影曝光机的解像力.
关键词:
相移掩膜
,
等间隔线
,
模拟
,
曝光容限
,
解像力
柳锦春
,
高建岗
,
赵启林
,
孙建
复合材料学报
doi:10.13801/j.cnki.fhclxb.20160113.001
通过试验研究了预紧力、齿长和载荷水平对碳纤维增强树脂基复合材料(CFRP)预紧力单齿接头(PTSTC)静态和疲劳性能的影响。试验结果表明：CFRP PTSTC 的疲劳极限承载力可以达到静态极限承载力的80%~85%,与螺栓等传统连接方式相比,其疲劳性能具有一定优势；预紧力可以显著改善 CFRP 单齿接头的静态和疲劳性能；CFRP PTSTC的静态极限承载力随齿长增加而升高,但是在相同载荷水平下增加齿长不一定可以延长接头的疲劳寿命,尤其是在低载荷水平下齿长增加反而会缩短疲劳寿命；在加载初期,PTSTC的疲劳裂纹快速萌生,之后扩展缓慢,在接近破坏前的几次循环中又骤然增大,预紧力可以减缓疲劳损伤的累积速率；疲劳过程中PTSTC的刚度衰退不明显,在前95%疲劳寿命阶段仅下降1%~4%,预紧力也可以减缓刚度的衰退速率。所得研究成果可为复合材料接头抗疲劳设计提供参考依据。
关键词:
碳纤维增强树脂基复合材料
,
预紧力单齿接头
,
疲劳
,
滞回环
,
损伤累积
刘刚
,
张恒
,
王亚飞
,
周兰
,
高凯晔
,
柯映林
,
卢大伟
复合材料学报
针对传统钻孔方法加工复合材料时易导致分层、撕裂等缺陷的问题,采用螺旋铣作为新的制孔技术,根据飞机装配现场的实际加工条件,构建以机器人为移动载体、螺旋铣孔终端执行器为加工单元、螺旋铣孔专用刀具为切削工具的加工系统,采用该加工系统对碳纤维增强复合材料(CFRP)螺旋铣孔关键工艺参数进行正交试验,并讨论了刀具主轴转速、每齿进给量和轴向切削深度等工艺参数对切削力的影响规律;通过对加工缺陷的监测,探讨了切削力与CFRP分层、撕裂等缺陷之间的关系;最后对工艺参数进行优化,经试验验证,优化后轴向切削力较优化前降低26％以上,孔入口及出口处均无撕裂、毛刺,加工质量最优.
关键词:
螺旋铣
,
正交试验
,
切削力
,
分层
,
撕裂
,
碳纤维增强复合材料
赵庆
,
秦旭达
,
张心沛
,
李永行
,
吉春辉
机械工程材料
doi:10.11973/jxgccl201507023
基于二阶响应曲面法建立了碳纤维增强复合材料螺旋铣孔过程中轴向切削力的预测模型,运用方差分析、相关系数等手段验证了模型的准确性以及各输入参数的显著性,并研究了切削参数对轴向切削力的影响规律.结果表明:预测模型回归显著,置信度高,预测精度较高;主轴转速和螺距对轴向切削力的影响较为显著;轴向力随螺距和切向每齿进给量的增大而增大,随主轴转速的增大而先增大后减小.
关键词:
碳纤维增强复合材料
,
螺旋铣孔
,
响应曲面法
,
轴向切削力
