等离子体旋转自耗电极端部熔池中的流场分析

金属学报, 2000, 36(2): 187-190. doi: 10.3321/j.issn:0412-1961.2000.02.017

等离子体旋转自耗电极端部熔池中的流场分析

何承群 ^1, , 胡本芙 ^2, , 国为民 ^3, , 陈生大 ^4,

1.北京科技大学材料系,北京,100083

2.北京科技大学材料系,北京,100083

3.北京钢铁研究总院,北京,100081

4.北京钢铁研究总院,北京,100081

关键词：等离子体旋转自耗电极 , 流场分析

ANALYSIS ON FLUID FIELD IN THE END OF PLASMA-ROTATING ELECTRODE

运用Newton流体力学的微元法分析,通过对等离子体旋转自耗电极(PREP)端部小熔池中液膜流动的稳态层流假设,建立了液膜中流体运动的微分方程.并运用相关边界条件,得到了该微分方程的解析解,由此得到液膜厚度的表达式.该式表明液膜厚度与等离子体电弧功率、PREP直径及旋转速度存在依赖关系.通过改变这些工艺参数,进行了实验验证,结果表明,实测的液膜厚度同理论计算值符合较好.

参考文献

[1]	Hodkin D J,Sutcliffe P W.Powder Metall,1973; 16:277
[2]	Champagne B,Angers R.Powder Metall Int,1984; 16(3):125
[3]	Cengiz Dogan,Suleyman Saritas.Int J Powder Metall,1994;30:419
[4]	Uskokovic D P.Mater Sci Forum,1996; 214:189
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[6]	Schmitt H.Powder Metall Int,1979; 11(2):69

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