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采用X射线光电子能谱(XPS)分析研究了298 K时O2在金属U和U Nb合金清洁表面的原位吸附过程,作为对照还研究了在纯Nb表面的吸附.吸附各阶段XPS图谱的变化揭示了O2在U,Nb和U-Nb合金表面的吸附将导致UO2,NbO和Nb2O5等多种产物形成定量分析表明,O2在U和U-Nb合金表面的饱和吸附量大约分别为45 L和40 L(1 L=L33x10-4Pa@s),而O2在金属Nb上的饱和吸附量仅约为10 L.

参考文献

[1] Schultz J C, Colmenares C A, Naegele J, Spirlet J C. Surf Sci, 1988,198:301
[2] Winer K, Colmenares C A, Smith R L, Wooten F. Surf Sci, 1987,183:67
[3] Wang X L, Fu Y B, Xie R S. China nuclear science and technology report, CNIC-01102/SINPC-0005, Beijing: Atomic energy press, 1996.(汪小琳,付依备,谢仁寿中国核科技报告, CNIC-01102/SINPC-0005,北京:原子能出版社,1996)
[4] Liu K Z, Yu Y, Zhou J S. China nuclear science and technology report, CNIC-01382/SINPC-0015, Beijing: Atomic energy press, 1999.(刘柯钊,余勇,邹觉生中国核科技报告,CNIC-01382/SINPC-0015,北京:原子能出版社,1999)
[5] Takuya Yamamoto, Satoru Tanka, Michio Yamawaki. J Nucl Mater, 1990,170:140
[6] Dillard J G, Moers H, Klewe-Nebenius H, Kirch G, Pfenning G, Ache H J. J phys chem, 1984,88:5345
[7] Dillard J G, Moers H, Klewe Nebenius H, Kirch G, Pfenning G, Ache H J. Surf Sci, 1984,145:62
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