利用电化学扫描隧道显微镜(ECSTM),原位研究不同电位下不锈钢在0.5M H2SO4+0.02M NaCl溶液中表面形貌的动态行为,并讨论电位对不锈钢电化学阻抗谱(EIS)的影响.结果表明:不锈钢在活化-钝化过渡区电位表面粗糙度最大;进入钝化区后,在钝化膜完整处,电位越高,表面粗糙度越小,钝化膜呈有序生长.在钝化膜薄弱处,电位控制在0.2 V时,钝化膜最为完整.在0.5 V时,表面微点蚀坑开始萌生.电位为0.8 V时,已有的微点蚀坑有所生长.不锈钢表面ECSTM形貌与电化学阻抗谱测量呈对应关系:电位为0.2 V时,表面钝化膜最为完整,阻抗最大;电位为0.5 V时,在钝化膜薄弱处萌生点蚀坑,钝化膜阻抗有所下降;电位为0.8 V时,钝化膜完整处得到明显的整平,阻抗相比0.5 V时明显提高,但由于已萌生的微点蚀坑开始生长,阻抗相比0.2 V时仍有所降低.
参考文献
[1] | Bai C L. The Principle and Application of Scanning Tunneling Microscopy Press of Science and Technology in Shanghai 1992(白春礼编著.扫描隧道显微术及其应用 上海:上海科学技术出版社 1992) |
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