MoSi2高温氧化层的微观结构

金属学报, 2003, 39(2): 126-130. doi: 10.3321/j.issn:0412-1961.2003.02.003

MoSi2高温氧化层的微观结构

常春 ¹ , 李木森 ² , 陈传中 ³ , 田雷言 ⁴

1.山东大学材料科学与工程学院,济南,250061

2.山东大学材料科学与工程学院,济南,250061

3.山东大学材料科学与工程学院,济南,250061

4.山东大学材料科学与工程学院,济南,250061

基金项目: 国家自然科学基金(50171037)

关键词： MoSi2 , 微观结构 , 氧化层 , 方石英

MICROSTRUCTURE OF HIGH-TEMPERATURE OXIDATION LAYER OF MOLYBDENUM DISILICIDE

采用SEM,TEM和XRD方法研究了MoSi2在1200-1600℃的氧化层微观结构.在1240℃以下,氧化层由SiO2和其它氧化物混合而成,致密度较差1240-1520℃区间氧化层表面存在针状、扇状或羽状的低温石英,氧化层较薄.在1520℃以上,氧化层中含有块状、粒状或蜂巢状的方石英,氧化层致密而均匀,增强了材料的抗氧化性能.

参考文献

[1]	Shaw L, Abbaschian R. J Mater Sci, 1995; 30:5272
[2]	Bartlett R W, Mccamont J W, Gage P R. J Am Ceram Soc, 1985; 48:551
[3]	Wang D Z, Zuo T Y, Liu X Y. Bull Mater, 1997; 8:52(王德志,左铁镛,刘心宇.材料导报,1997;8:52)
[4]	Kingery W D, Bowen H K, Uhlmann D R. Introduction to Ceramics. Second Edition, New York: Wiley, 1976:762
[5]	Zhou Z C. Microstructure Analysis in Inorganic Material.Hangzhou: Zhejiang University Press, 1993:258(周志朝.无机材料显微结构分析.杭州:浙江大学出版社,1993:258)

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