电沉积制备WO3电极及其对Cu可见光光电化学保护

金属学报, 2007, 43(7): 764-768. doi: 10.3321/j.issn:0412-1961.2007.07.018

电沉积制备WO3电极及其对Cu可见光光电化学保护

冷文华 ^1, , 刘东坡 ^2, , 程小芳 ^3, , 朱文彩 ^4, , 张鉴清 ^5, , 曹楚南 ^6,

1.浙江大学化学系,杭州310027

2.浙江大学化学系,杭州310027

3.浙江大学化学系,杭州310027

4.浙江大学化学系,杭州310027;山东教育学院化工系,济南250013

5.浙江大学化学系,杭州310027;中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳110016

6.浙江大学化学系,杭州310027;中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳110016

基金项目: 国家自然科学基金(20373062)

关键词： WO3 , 电沉积 , 可见光 , Cu , 光电化学防腐蚀

CATHODIC ELECTRO-DEPOSITION OF WO3 AND ITS PHOTOELECTROCHEMICAL ANTICORROSION FOR COPPER UNDER VISIBLE LIGHT

采用阴极电沉积法制备了具有可见光光电响应的WO3薄膜电极.考察了制备工艺条件和光反应体系组成对电极光电响应性能的影响.结果表明:沉积电位-0.45 V(相对于饱和甘汞电极)、沉积时间1600 s、烧结温度400℃时电极光电性能较好;在光电化学电池中,阳极室添加空穴捕获剂(如甲酸和升高溶液pH值,有利于光电流输出.在阳极室溶液组成为0.5 mol/dm3Na2SO4+0.5 mol/dm3HCOOH(pH 9.6)时,WO3薄膜电极在可见光光照下可对4 mol/dm3NaCl溶液中金属Cu进行光电化学防腐蚀,为利用可见光实现对金属防腐蚀提供了一条新的途径.

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