等离子体源增强磁控溅射沉积Al2O3薄膜研究

1.大连理工大学材料工程系表面工程研究室,大连,116024

2.大连理工大学材料工程系表面工程研究室,大连,116024

3.大连理工大学材料工程系表面工程研究室,大连,116024

基金项目: 国家自然科学基金(69889701) 教育部科学技术研究项目

Al2O3 Films Deposited by Plasma Source Enhanced Magnetron Sputtering

采用电子回旋共振微波等离子体源增强磁控溅射沉积氧化铝薄膜.X射线光电子谱和X射线衍射分析表明,在600°C沉积温度下,Si(100)基片上获得了亚稳的具有化学计量配比成分、面心立方结构的γ-Al2O3薄膜.薄膜的折射率为1.7,与稳定的α-Al2Os体材料相当.

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