通过使用氨气作氮源,氮化介孔氧化硅和含铝氧化硅(SBA15和Al-MCM-41)的前驱体(含模板剂),成功制备出高氮含量的有序氮氧化物介孔材料.主要氮化条件为:1273～1323K,8～24h.采用CNH元素分析、红外光谱、Si固体核磁共振谱(MASNMR)、N2吸附-脱附分析、小角XRD和高分辨透射电镜(HRTEM)进行表征,分析结果表明经过高温长时间氮化制备出的高氮含量(～21wt%)的氮氧化硅和含铝氮氧化硅介孔材料仍然具有高达700～900m2g-1的比表面积、窄的孔径分布和良好的有序性.
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