中频交流反应溅射TiO2薄膜制备及光催化性能研究

无机材料学报, 2004, 19(5): 1073-1079. doi: 10.3321/j.issn:1000-324X.2004.05.017

中频交流反应溅射TiO2薄膜制备及光催化性能研究

侯亚奇 ^1, , 张弓 ^2, , 庄大明 ^3, , 吴敏生 ^4,

1.清华大学机械工程系,北京,100084

2.清华大学机械工程系,北京,100084

3.清华大学机械工程系,北京,100084

4.清华大学机械工程系,北京,100084

基金项目: 面向21世纪教育振兴行动计划(985计划)

关键词： TiO2薄膜 , 中频交流磁控溅射 , 光催化降解 , 亚甲基蓝 , 甲基橙

Photocatalytic Degradation Properties of Titanium Oxide Film Prepared by Mid-frequency AC Magnetron Sputtering

利用中频交流反应磁控溅射技术制备TiO2薄膜, 利用AES、XRD和SEM分析了制得的TiO2薄膜的成分、结构和表面形貌, 并利用多种降解对象研究了TiO2薄膜的光催化降解性能.结果发现:利用Ar/O2混合气体反应溅射纯Ti靶制备的TiO2薄膜符合化学计量比, 呈现柱状生长.TiO2薄膜均为锐钛矿相, 晶粒随薄膜厚度增加逐渐长大.制得的TiO2薄膜对亚甲基蓝、甲基橙和敌敌畏都具有确实的光催化降解效果, 同时具有很好的光催化性能稳定性.

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Photocatalytic Degradation Properties of Titanium Oxide Film Prepared by Mid-frequency AC Magnetron Sputtering

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