磁过滤阴极弧制备四面体非晶碳膜热稳定性研究

无机材料学报, 2008, 23(4): 789-793. doi: 10.3321/j.issn:1000-324X.2008.04.031

磁过滤阴极弧制备四面体非晶碳膜热稳定性研究

覃礼钊 ^1, , 张旭 ^2, , 吴正龙 ^3, , 刘安东 ^4, , 廖斌 ^5,

1.北京师范大学低能核物理研究所,北京100875;遵义师范学院物理系,遵义563000

2.北京师范大学低能核物理研究所,北京,100875

3.北京师范大学分析测试中心,北京,100875

4.北京师范大学低能核物理研究所,北京,100875

5.北京师范大学低能核物理研究所,北京,100875

基金项目: 遵义市科技局遵义师范学院科技研发基金(00709)

关键词：热稳定性 , 磁过滤阴极弧沉积 , ta-C膜 , 微观结构

Thermal Stability of Tetrahedral Amorphous Carbon Films Fabricated by Filtered Cathodic Arc Technique

为研究磁过滤阴极弧制备的四面体非晶碳(tetrahedral amorphous carbon,ta-C)膜在自然环境中使用的热稳定性,将ta-C膜在空气中退火3h,退火温度分别为200、400和500°C.用XPS和Raman谱对膜的微观结构进行表征.结果表明,在400及400°C以下退火,XPS谱C1s峰和Raman谱都没有明显变化.当退火温度为500°C时,C1s峰峰形仍然没有变化;Raman 峰 ID/IG增大,G峰峰位末变,峰的对称性变好.分析显示膜中石墨颗粒长大,但没有发生石墨化.说明磁过滤阴极弧制备的ta-C膜因不含氢和结构致密而表现出良好的热稳定性.另外,在退火温度为500°C时,样品边缘已经氧化挥发.

参考文献

[1]	Pharr George M,Callahan Daniel L,McAdams Shaun D,et al.Appl.Phys.Lett.,1996,68 (6):779-781.
[2]	Lossy Richard,Pappas David L,Roy Ronnen A,et al.Appl.Phys.Lett.,1992,61 (2):171-173.
[3]	Tay B K,Shi X,Liu E J,et al.Diamond and Related Materials,1999,8 (7):1328-1332.
[4]	Leng Y X,Chen J Y,Yang P,et al.Surface and Coatings Technology,2003,173 (1):67-73.
[5]	居建华,夏义本,张伟丽,等.功能材料,2001,32(5):473-477.
[6]	金哲,李俊杰,盖同样,等.吉林大学学报(理学版),2003,41(4):497-500.
[7]	Yang W J,Choa Y H,Sekino T,et al.Thin Solid Films,2003,434 (1-2):49-54.
[8]	Richter A,Scheibe H J,Pompe W,et al.Non-Crystalline Solids,1986,88 (1):131-144.
[9]	Ferrari A C,Kleinsorge B,Morrison N A,et al.J.Appl.Phys.,1999,85 (10):7191-7197.

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