碳化硅表面改性和光学镜面加工的研究现状

无机材料学报, 2007, 22(5): 769-774. doi: 10.3321/j.issn:1000-324x.2007.05.001

碳化硅表面改性和光学镜面加工的研究现状

刘桂玲 ^1, , 黄政仁 ^2, , 刘学建 ^3, , 董绍明 ^4, , 江东亮 ^5,

1.中国科学院,上海硅酸盐研究所结构陶瓷工程中心,上海,200050;中国科学院,研究生院,北京,100049

2.中国科学院,上海硅酸盐研究所结构陶瓷工程中心,上海,200050

3.中国科学院,上海硅酸盐研究所结构陶瓷工程中心,上海,200050

4.中国科学院,上海硅酸盐研究所结构陶瓷工程中心,上海,200050

5.中国科学院,上海硅酸盐研究所结构陶瓷工程中心,上海,200050

关键词：碳化硅 , 表面改性 , 光学镜面加工

Recent Developments of Surface Coatings and Optical Fabrication of Silicon Carbide

为了获得满足光学应用要求的碳化硅光学镜面,通常采取碳化硅表面改性和改进光学镜面加工的方法.碳化硅表面改性的主要方式是在碳化硅表面镀致密化涂层.本文介绍了在碳化硅表面化学气相沉积碳化硅和物理气相沉积硅两种碳化硅表面改性技术,并对碳化硅光学镜面加工的研究现状进行了综述.

参考文献

[1]	王贵林,李圣怡,戴一帆.机械工程材料,2002,26(8):37-38.
[2]	刘荣军,张长瑞,周新贵,等.硅酸盐学报,2003,31(11):1107-1111.
[3]	刘荣军,周新贵,张长瑞,等.宇航材料工艺,2002,(5):42-44.
[4]	Eng R,Carpenter J R,Foss Jr C A,et al.SPIE,2005,5868:58680Q-1-58680Q-8.
[5]	Fisher Ⅲ W F,Foss Jr C A.SPIE,2004,5523:290-229.
[6]	Goela J S,Pickering M A,Taylor R L,et al.SPIE,1990,1330:25-38.
[7]	Goela J S,Desai H D,Taylor R L,et al.SPIE,1995,2543:38-48.
[8]	Leviton D B,Saha T T,Gardner L D.SPIE,1998,3443:19-30.
[9]	范镝,张忠玉,牛海燕,等.硅酸盐学报,2003,31(11):1096-1100.
[10]	Tobin E,Magida M,Kishner S,et al.SPIE,1995,2543:12-21.
[11]	刘荣军,周新贵,张长瑞,等.材料工程,2002,(7):46-48.
[12]	刘荣军,张长瑞,周新贵,等.材料科学与工程学报,2004,22(1):15-19.
[13]	刘荣军,张长瑞,周新贵,等.材料工程,2005,(4):3-6.
[14]	刘荣军,张长瑞,周新贵,等(LIU Rong-Jun,et al).无机材料学报(Journal of Inorganic Materials),2005,20(2):425-429.
[15]	Liu R J,Zhang C R,Zhou X G,et al.Journal of Materials Science Letters,2003,22:841-843.
[16]	Zhang J H,Zhang Y M,Han J C,et al.SPIE,2006,6148:61480U-1-61480U-6.
[17]	唐惠东.PVD SiC和PVD Si涂层的制备及性能研究.中国科学院研究生院博士学位论文,2006.
[18]	Ealey M A,Wellman J A.SPIE,1996,2857:78-85.
[19]	Rich L,Crowe D.SPIE,1995,2543:236-247.
[20]	韩杰才,姚旺,张宇民.宇航材料工艺,2005,(4):1-6.
[21]	Robichaud J,Anapol M,Gardner L,et al.SPIE,1995,2543:180-184.
[22]	Anapol M,Philippon R,Tucker T,et al.SPIE,1995,2543:219-228.
[23]	Anapol M,Glasheen R.SPIE,1994,2210:373-382.
[24]	Anapol M,Hadfield P.SPIE,1992,1693:281-295.
[25]	Magida M B,Paquin R A,Richmond J J.SPIE,1990,1335:60-68.
[26]	Tang H D,Huang Z R,Tan S H.SPIE,2006,6149:1-6.
[27]	高宏刚,曹健林,朱镛,等.物理,2000,29(10):610-614.
[28]	徐清兰,伍凡,吴时彬,等.光电工程,2004,31(9):22.
[29]	Bifano T G,Yi Y,Kahlt W K.Precision Engineering,1994,2 (16):109-116.
[30]	Namba Y.SPIE,1996,2856:323-330.
[31]	谢会东,王晓青,沈光球.人工晶体学报,2004,33(6):1035-1040.
[32]	Yin L,Vancoille E Y J,Lee L C,et al.Wear,2004,256(1-2):197-207.
[33]	Zhu Z Z,Muratov V,Fischer T E.Wear,1999,225-229:848-856.
[34]	Muratov V A,Fischer T E.Annual Review of Materials Science,2000,30:27-51.
[35]	Lin Y C,Kao C H.International Journal of Advanced Manufacturing Technology,2005,25 (1-2):33-40.
[36]	张华,王文,庞媛媛.光学仪器,2003,25(3):47-51.
[37]	Dai Y T,Ohmori H,Watanabe Y,et al.JSME International Journal Series C,2004,47 (1):66-71.
[38]	Lin W,Ohmori H,Suzuki I,et al.Key Engineering Materials,2005,291-292:365-370.
[39]	Eto H,Dai Y T,Ebizuka N,et al.ICSO,2004,554:707-710.
[40]	Ebizuka N,Dai Y T,Eto H,et al.SPIE,2003,4842:329-334.
[41]	陈明君,王立松,梁迎春,等.航空精密制造技术,2001,37(2):10-12,25.
[42]	关佳亮,袁哲俊,张飞虎.工艺与检测,1998,(1):25-26.
[43]	关佳亮,范晋伟.机械制造与研究,2001,(4):115-117.
[44]	陈杨,陈建清,陈志刚.江苏大学学报(自然科学版),2003,24(5):55-59.
[45]	Zhou L,Audurier V,Pirouz P,et al.Journal of the Electrochemical Society,1997,144 (6):L161-L163.
[46]	Yasseen A A,Zorman C A,Mehregany M.Journal of the Electrochemical Society,1999,146 (1):327-330.
[47]	李娟,陈秀芬,马德营,等.功能材料,2006,37(1):70-72.
[48]	张峰,余景池,张学军,等.光学精密工程,1999,7(5):1-8.
[49]	Johnson J S,Grobsky K,Bray D J.SPIE,2002,4771:243-253.
[50]	程灏波,冯之敬,王英伟.哈尔滨工业大学学报,2005,37(4):433-436.
[51]	尤伟伟.磁流变抛光的关键技术研究.国防科学技术大学研究生院工程硕士学位论文,2004.
[52]	Murahara M.SPIE,2002,4679:69-75.
[53]	Hylton K W,Carnal C L,Jackson J R,et al.SPIE,1994,1994:16-26.
[54]	Egert C M.SPIE,1992,1752:63-72.
[55]	洪义麟,黄文浩,付绍军,等.真空科学与技术,1995,15(6):429-431.

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