热丝法化学气相沉积金刚石膜

材料研究学报, 2000, 14(z1): 81-83. doi: 10.3321/j.issn:1005-3093.2000.z1.017

热丝法化学气相沉积金刚石膜

曹小明 ^1, , 张军旗 ^2, , 黄荣芳 ^3, , 闻立时 ^4,

1.中国科学院金属研究所

2.中国科学院金属研究所

3.中国科学院金属研究所

4.中国科学院金属研究所

关键词：热丝法 , 金刚石膜 , 分送 , 混送

DEPOSITION DIAMOND FILM BY HFCVD

用热丝法沉积金刚石膜,分离送入氢气和甲烷,可以减少钨丝碳化,提高功率利用率.分送与混送相结合,可以制备晶体形态良好的金刚石膜.到达基材表面的活性粒子的数量是提高金刚石膜生长速率的关键.生长速率可达3.8μm/h,均匀区面积达400mm2.

参考文献

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