ODF工艺中液晶滴下量的优化

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Optimization of LC Drop Amount in ODF and PS Process

研究了小尺寸液晶显示器件ODF(One Drop Fi11ing)工艺中液晶滴下量对漏液晶和低温气泡的影响,确定了液晶滴下量的安全范围.开发了液晶滴下设备与PS高度检测设备联动的新型液晶滴下方法,有效地解决了PS产品在ODF工艺中发生漏液晶和低温气泡的问题.

[1]	田民波,叶锋.TFT液晶显示原理与技术[M].北京:科学出版社,2010:5-40.
[2]	Yamada S,Kimura S,Sakai N,et al.A new production of the large size TFT-panel by "LC-Dropping Method"[C]//SID'01,San Jose,USA:SID,2001:1350-1353.
[3]	杨国波,王永茂,赵军,等.ODF工艺的进展[J].光机电信息,2011,28(1):23-27.
[4]	Odahara S,Yamashita H,Momoi Y,et al.Post technology for TFT/LCD[C]//SID'01,San Jose,USA:SID,2001:1358-1361.

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