纳米硅薄膜(nc-Si:H) 是一种新型低维人工半导体材料,它具有新颖的结构特征与独特的物理性质.综合评述了这种材料在制备方法、结构特征、输运性质和发光特性等方面的最新研究进展,并指出了今后的发展方向.
参考文献
[1] | 彭英才,王英民,李星文,傅广生.半导体超薄层微结构的外延生长技术[J].真空科学与技术,1996(03):185-192. |
[2] | Gleiter H .[J].Progress in Materials Science,1989,33:323. |
[3] | 何宇亮;刘湘娜;王志超.[J].中国科学A辑,1992(09):995. |
[4] | 何宇亮,余明斌.纳米硅薄膜中的量子点特征[J].自然科学进展,1996(06):700. |
[5] | 刘明;余明斌;何宇亮 等.[J].电子学报,1997,25:62. |
[6] | Hayashi S;Nagareda T;Kanzawa Y et al.[J].Japanese Journal of Applied Physics,1993,32:3840. |
[7] | 牧村哲也;国井康彦;村上浩一 .[J].表面(日本),1996,28:467. |
[8] | Morisaki H;Ping F W;One H et al.[J].Journal of Applied Physics,1991,70:1869. |
[9] | 何宇亮,殷晨钟,程光煦,王路春,李齐.纳米硅薄膜结构分析[J].半导体学报,1992(11):683. |
[10] | 陈国,郭晓旭,朱美芳,孙景兰,许怀哲,韩一琴.热丝法制备纳米晶硅薄膜结构及沉积机制的研究[J].物理学报,1997(10):2015-2022. |
[11] | 韩伟强;韩高荣;丁子上 .[J].材料科学与工程,1994,12:43. |
[12] | Giust GK;Sigmon TW .Microstructural characterization of solid-phase crystallized amorphous silicon films recrystallized using an excimer laser[J].Applied physics letters,1997(6):767-769. |
[13] | Boyce J B;Anderson G B;Fork DK et al.[J].Materials Research Society Symposium Proceedings,1994,321:671. |
[14] | Veprek S .[J].Applied Physics Letters,1990,70:30. |
[15] | 秦华,陈坤基,黄信凡,李伟,KazuyukiIkuta,Akihisa,Matsuda,and,Kazunoubu,Tanaka.Triode PECVD 氢稀释制备的 nc-Si:H 薄膜的新结果[J].半导体学报,1997(02):103. |
[16] | 彭英才 .[J].真空科学与技术学报,1994,16:294. |
[17] | Ogino T;Hibino H;Prabhakaran K .[J].J Vac Sci Technol,1996,14B:134. |
[18] | Werwae;Seraphin A A;Chiu L A et al.[J].Applied Physics Letters,1994,64:1821. |
[19] | Nakajima A;Sugita Y;KanamuraK et al.[J].Japanese Journal of Applied Physics,1996,35:189. |
[20] | Fukada M;NakagawaK;Miyazaki S et al.[J].Applied Physics Letters,1997,70:229. |
[21] | 彭英才,何宇亮,刘明.PECVD生长nc-Si:H膜的沉积机理分析[J].真空科学与技术学报,1998(04):283-288. |
[22] | 何宇亮,褚一鸣,王中怀,刘湘娜,白春礼.纳米硅薄膜界面结构的微观特征[J].半导体学报,1994(01):71. |
[23] | 王忠怀;戴长春;张平城 等.[J].科学通报,1993,38:1953. |
[24] | 万明芳;何宇亮;袁凯华 等.[J].科学通报,1996,41:2. |
[25] | 韩伟强;魏赛珍;韩高荣 等.[J].科学通报,1996,41:1521. |
[26] | 何宇亮;林鸿溢 等.[J].材料研究学报,1996,10:33. |
[27] | 何宇亮;韦亚一;余明斌 等.[J].固体电子学研究与进展,1997,17:102. |
[28] | Hu G Y;O′Connell R F .[J].Physical Review B,1992,46:14219. |
[29] | 何宇亮;余明斌;胡根友 等.[J].物理学报,1997,46:1836. |
[30] | Qiu Y Y;Tsu R;Nicolliane H .[J].Physical Review B,1991,44:1806. |
[31] | 彭英才;刘明;何宇亮.[J].半导体学报,1998 |
[32] | Boeringer D W;Tsu R .[J].Physical Review B,1995,51:13337. |
[33] | Zhao X;Schoenfeld O;Kusano J et al.[J].Japanese Journal of Applied Physics,1994,33:649. |
[34] | Ruckschloss M;Landkammer B;Veprek S .[J].Applied Physics Letters,1993,63:1474. |
[35] | Zhang Q;Bayliss S C;Hutt D A .[J].Applied Physics Letters,1995,66:1977. |
[36] | Canbam L T .[J].Applied Physics Letters,1990,57:1046. |
[37] | Augustine B H;Lrenee A;He Y J et al.[J].Journal of Applied Physics,1995,78:15. |
[38] | Prokes S M;Glembocki O J .[J].Physical Review B,1994,49:2238. |
[39] | Kanemitsu Y;Shiraish T;TakedaK .[J].Physical Review B,1993,48:4883. |
[40] | 朱美芳,陈国,许怀哲,韩一琴,谢侃,刘振祥,唐勇,陈培毅.镶嵌在氧化硅薄膜中纳米晶硅的可见光荧光谱与发光机制的研究[J].物理学报,1997(08):1645-1651. |
[41] | 彭英才.硅基低维材料的可见光发射机理探讨[J].固体电子学研究与进展,1998(02):146. |
[42] | Takagi H;Ogawa H;Yamzaki Y et al.[J].Applied Physics Letters,1990,56:2379. |
[43] | Liu Xiangna;Wu Xiaowei;Bao Ximao et al.[J].Applied Physics Letters,1994,64:220. |
[44] | 佟嵩;刘湘娜;王路春 等.[J].物理学报,1997,46:1217. |
[45] | Tong S;Liu Xiongna;Bao Ximao .[J].Applied Physics Letters,1995,66:469. |
[46] | Toyama T;Matsul T;Kurokawa Y et al.[J].Applied Physics Letters,1996,69:1261. |
[47] | 朱海军;蒋最敏;徐阿妹 等.[J].自然科学进展,1995,8:122. |
[48] | 彭英才,刘明,何宇亮,江兴流,李国华,韩和相.测试温度对nc-Si:H膜光致发光特性的影响[J].发光学报,1998(01):56-59. |
[49] | Ruckschloss M;Landlkammer B;Perek S .[J].Applied Physics Letters,1993,63:1474. |
[50] | Munekuni S;Yamanaka T;Shimogaichi Y et al.[J].Journal of Applied Physics,1990,68:1212. |
[51] | 宋海智;鲍希茂 .[J].半导体学报,1997,18:821. |
[52] | 鲍希茂;宋海智 .[J].材料研究学报,1997,11:601. |
[53] | 刘明 .纳米硅薄膜的微结构、光学及电学特性研究[D].北京航空航天大学,1998. |
[54] | 刘明;彭英才;何宇亮.掺杂纳米硅膜的研制[A].北京,1996 |
[55] | 盛殊然 .氢化非晶硅的稳定性研究[D].北京:中国科学院半导体研究所,1997. |
[56] | 余明斌;何宇亮;刘洪涛 等.[J].物理学报,1995,44:634. |
[57] | 刘湘娜,何宇亮,F.WANG,R.Schwarz.纳米硅薄膜光吸收谱的研究[J].物理学报,1993(12):1979-1984. |
[58] | HE Yuliang;WU Xuhui;LIN Hongyi;WANGHeng;LI Chong .Structure characteristics and piezoresistive effect of nc-Si:H films[J].Chinese science bulletin,1995(20):1684-1687. |
[59] | Notzel R. .SELF-ORGANIZED GROWTH OF QUANTUM-DOT STRUCTURES [Review][J].Semiconductor Science and Technology,1996(10):1365-1379. |
[60] | 何宇亮 .[J].半导体杂志,1996,21:43. |
[61] | Hirschman KD.;Duttagupta SP.;Fauchet PM.;Tsybeskov L. .SILICON-BASED VISIBLE LIGHT-EMITTING DEVICES INTEGRATED INTO MICROELECTRONIC CIRCUITS[J].Nature,1996(6607):338-341. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分:
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%