硅单晶片镜面吸附物吸附状态的研究

1.河北工业大学,天津300130

2.北京石化工程公司,北京100101

3.北京汽车总公司,北京100020

Investigation on Adsorption State of Surface Adsorbate on Silicon Wafer

提出了新抛光硅片镜面吸附物吸附动力学过程和优先吸附数学模型及吸附物吸附状态控制机理.

[1]	O'mara W C Int .[J].Semiconductor International,1994,17(08):140.
[2]	Singer P.Int .[J].Semicondactor,1994,17(02):48.
[3]	De Larios Jm.Int .[J].Semiconductor International,1996,19(05):121.
[4]	Myers T L;Furym A;Krusell W C .[J].Solid State Technology,1995,38(10):59.

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