ITO废靶回收金属铟

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Recovery Indium from Waster ITO Target

磁控溅射镀膜后的ITO废靶, 以及ITO靶材生产中产生的边角料、切屑、废品等是再生铟的主要原料. 对废靶的还原-二次电解工艺进行了研究, 并获得了工艺参数良好、回收率高、纯度为99.993%的金属铟产品.

[1]	梁杏初,姚吉升.发挥铟资源优势发展铟的高新产业[J].广东有色金属学报,2002(z1):7-11.
[2]	Nagata Hidek .Recovering method of high purity indium[P].Patent JP200169991,2001.
[3]	Kurita Shigeru et al.Method for recovering indium[P].Patent JP2001207282,2001.
[4]	陈坚;姚吉升;周友元等.ITO废靶回收工艺研究报告(鉴定文集)[R].,2002.

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