磁控溅射AuNi5的热处理

稀有金属, 2003, 27(1): 135-138. doi: 10.3969/j.issn.0258-7076.2003.01.033

磁控溅射AuNi5的热处理

余前春 ^1, , 张晓辉 ^2, , 范金铎 ^3, , 何毅 ^4, , 刘凤龙 ^5, , 江轩 ^6,

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基金项目: 科技部科研院所技术开发研究专项基金(NCSTE-2001-JKZX-047)

关键词：磁控溅射 , 热处理 , 结合强度 , 互扩散

Heat Treatment of AuNi5 Prepared by Magnetron Sputtering

采用磁控溅射方法制备了AuNi5/Ni两层复合材料中的AuNi5膜层, 并对样品进行退火处理. 应用金相显微分析、划痕法和SEM, 研究了AuNi5膜层的结构及性能特点. 经退火后, 分析了AuNi5膜层与Ni基体层间的元素互扩散、结合强度及应力与热处理工艺的关系. Ni层的处理和表面状态对AuNi5膜层和Ni金属层间的结合强度有重要的影响.

参考文献

[1]	Huang Zexi.Handbook of functional materials and its application[M].北京:机械工业出版社,1991:213.
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