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概述了微区电阻测试方法及其均匀性表征方法的应用,利用自主研制的斜置式方形四探针微区薄层电阻测试仪,对P型硅芯片进行了无图形Rymaszewski法测试,在3寸芯片上测试了598个366 μm×366 μm 方形微区的薄层电阻,并用等值线图表示了其分布,得到了薄层电阻的不均匀度及平均值,这种微区薄层电阻表示方法适用于评价材料质量及改进制造工艺.

参考文献

[1] 孙以材,王静,赵彦晓,田立强,刘江.动态随机存储器IC芯片制造技术的进展与展望[J].半导体技术,2002(12):10-13.
[2] 孙以材;张林在 .用改进的Van der Pauw 法测定方形微区的方块电阻[J].物理学报,1994,43(04):530.
[3] Rymaszewski R .Empirical method of calibrating A 4-point microarry for measuring thin-film-sheet resistance[J].Electronics Letters,1967,3(02):57.
[4] 孙以材.半导体测试技术[M].北京:冶金工业出版社,1984:13.
[5] Van Der Pauw L J .A method of measuring specific resistivity and hall effect of discs of arbitrary shape[J].Journal of Philips Research Reports,1958,13(01):1.
[6] 孙冰 .微区电学测试探针技术[J].半导体杂志,1996,21(02):38.
[7] Smith F M .Measurement of sheet resistivities with the four-point probe[J].Bell System Technical Journal,1958,37:711.
[8] Sun Yicai;Shi Jungsheng;Meng Qinghao .Measurement of sheet resistance of cross microareas using a modified van der pauw[J].Semiconductor Science and Technology,1996,11:805.
[9] 孙以材,刘新福,高振斌,孟庆浩,孙冰.微区薄层电阻四探针测试仪及其应用[J].固体电子学研究与进展,2002(01):93-99.
[10] 孟庆浩,孙新宇,孙以材,孙冰,李福林.薄层电阻测试Mapping技术[J].半导体学报,1997(09):701.
[11] 孙以材;石俊生 .在矩形样品中Rymaszewski公式的适用条件的分析[J].物理学报,1995,12:1869.
[12] 周全德.RS的Mapping测试在硅片生产上的应用[J].上海计量测试,1999(06):47.
[13] 周全德 .薄层电阻标样及Mapping在IC制造中的应用研究[J].半导体情报,2000,37(04):38.
[14] 周全德.IC离子注入工艺的薄层电阻等值图监控[J].微电子学,2000(06):410-414.
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