采用正丁基锂直接插入法制备出不同插层程度的LixMoS2,并考察了插层反应温度、反应物摩尔量比和反应时间等因素对插层效果的影响. 结果发现,控制反应物n-C4H9Li与MoS2的摩尔比为5～9、插层反应温度为30 ℃左右,在机械搅拌下反应36～48 h制得LixMoS2,在水中剥层后能制得不同插层程度的MoS2悬浮液. 采用XRD对该悬浮液中的MoS2颗粒进行了表征. 结果发现,在LixMoS2中的x值越大制得的MoS2衍射峰宽化越严重,晶粒越小,晶形越差. 在四球摩擦磨损试验机考察了不同插层程度的MoS2悬浮液的摩擦学性能. 结果表明,x值在0.618～1.39范围的摩擦系数和磨斑直径均随着x值的变化先减小后增加,在x为0.75左右时,抗磨减摩性能达到最佳.
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