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研究了于室温下含有少量水的YbCl3-CoCl2-DMF溶液中电沉积制备Yb-Co合金膜。EDAX和XRD分析表明:在0.10 mol/L YbCl3-0.10 mol/L CoCl2的DMF电镀液中,以控制电位为-2.75V(SCE)进行恒电位电解,以控制电流密度为100A/m2进行恒电流电解或以控制脉冲电流密度为150A/m2进行脉冲电解,可以得到不同形态和Yb含量的共沉积合金膜,且膜层光滑、附着力强。

参考文献

[1] Tamazawas T;Takshsshi M;Ishia H.Electrolytic preparation of Sm-Co
[2] Matsada T F;Yoshimoto N;Morita M.Pulsed Electrodeposition of Dy-Fe
[3] P.P. Kumbhar;C.D. Lokhande .Electrodeposition of Yttrium from a Nonaqueous Bath[J].Metal finishing,1995(4):28,30-31-0.
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