对玻璃基体上电沉积Ni-Co合金镀层的工艺及镀层的性能进行了研究,对底镀层的形貌、成分、结构进行了观察和分析,并测定了镀层的耐腐蚀性.结果表明,镀层在0.5 mol/L H2SO4 和5% NaCl(pH=3)中的耐蚀性与1Cr18Ni9Ti相当.
参考文献
[1] | 朱龙章.镍钴合金镀层的电沉积及其耐蚀性的研究[J].材料保护,1997(05):4. |
[2] | Honma H;Koshio T;Hotta S .Fabrication of Nickel Film on Glass Disk By Electroless Nickel Plating[J].Plating and Surface Finishing,1995,82(01):60. |
[3] | 钱苗根;姚寿山;张少宗.现代表面技术[M].北京:机械工业出版社,2000 |
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