欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

在真空条件下采用氢气刻蚀二氧化硅形成硅膜,用微波等离子化学气相沉积法在玻璃上生长金刚石薄膜,并用X射线衍射、Raman光谱和光电子能谱对石英玻璃上的金刚石薄膜进行分析,指出其形成中间层SiO-2/Si/SiC/C(金刚石)是在石英玻璃上生长金刚石薄膜的关键.

参考文献

[1] 吴春瑜,王颖,刘兴辉,黄和鸾.C+注入Si中形成SiC的初步研究[J].辽宁大学学报(自然科学版),2000(01):46-48.
[2] 李刘合,张海泉,崔旭明,张彦华,夏立芳,马欣新,孙跃.X射线光电子能谱辅助Raman光谱分析类 金刚石碳膜的结构细节[J].物理学报,2001(08):1549-1553.
[3] 李军;周文利;曹广军 等.PZT/SiO-2/Si界面的XPS分析[J].华中理工大学学报,1996,24(01)
[4] 石瑞英,杜开瑛,谢茂浓,张敏,廖伟.衬底材料对直接光化学汽相淀积类金刚石碳膜成膜初期的影响[J].四川大学学报(自然科学版),1999(01):61.
[5] 郭忠诚;王万录;廖克俊 等.衬底负偏压热灯丝CVD金刚石薄膜在锥体上核化的研究[J].重庆邮电学院学报(自然科学版),1999,11(04):20-23.
上一张 下一张
上一张 下一张
计量
  • 下载量()
  • 访问量()
文章评分
  • 您的评分:
  • 1
    0%
  • 2
    0%
  • 3
    0%
  • 4
    0%
  • 5
    0%