利用Arrhenius公式对化学气相沉积的反应进行研究,设计了一种低压热化学气相沉积(LPCVD)高效沉积反应室.在料管的下方与衬底的上方间安放漏斗型筛板,在工艺中有效地提高了氢气的分压,并有利于衬底温度的提高,加快了沉积速率.通过对设计前后钨薄膜的金相组织对比分析后发现,较高的沉积速率可以使沉积薄膜晶粒细小,结构致密,但薄膜与衬底附着力较差,提高衬底温度可有效地提高薄膜与衬底附着力,以弥补因较高的沉积速率带来的薄膜与衬底附着力较差的问题,提高薄膜质量.
参考文献
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| [3] | 姚连增.晶体生长基础[M].合肥:中国科学技术大学出版社,1995 |
| [4] | 罗瑞盈;杨峥.碳/碳复合材料快速气相沉积工艺研究-快速定向扩散法[J].高技术通讯,1994(02):19. |
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