采用铜和纳米SiO2粉末的复合电沉积方法,在45钢板表面获得了厚度0.1~0.2 mm的Cu/SiO2 复合镀层,并应用扫描电镜、光学显微镜、显微硬度计、磨损试验机等对复合镀层的微观组织结构和性能进行了分析研究.结果表明:在实验进行的工艺范围内,可获得表面平整、光滑、 SiO2微粒均匀分布且与基体具有良好结合的复合电沉积层;复合镀层具有良好的硬度和耐磨性能;随镀覆时间的增加,复合镀层中的微粒粒度增加,并先沉积的粒子为核心而长大.
参考文献
[1] | 马莒生,黄福祥,黄乐,耿志挺,宁洪龙,韩振宇.铜基引线框架材料的研究与发展[J].功能材料,2002(01):1-4. |
[2] | 张立德;牟季美.纳米材料和纳米结构[M].北京:科学出版社,2001:490-491. |
[3] | 郭鹤桐;张三元.复合镀层[M].天津:天津大学出版社,1991:1-12. |
[4] | 王森林.(Ni-P)-石墨复合电镀的研究[J].电镀与精饰,1998(06):8. |
[5] | 周白杨,卢志红,高诚辉.Ni-Fe-P/金刚石复合电沉积层组织结构的研究[J].材料保护,2003(03):32-34. |
[6] | 侯增寿;卢光熙.金属学原理[M].上海:上海科学技术出版社,1989:236-237. |
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