以FeSO4·7H2O、Pd(NH3)2Cl2、磺基水杨酸(SSCS)和(NH4)2SO4所组成的溶液体系为研究对象,采用循环伏安法分析了镀液中Pd:Fe配比、电极转速、扫描速度、溶液pH值、pH调整剂和导电盐等因素对Pd-Fe合金共沉积电位的影响规律.结果表明,Pd-Fe合金的共沉积电位介于Fe2+和Pd2+的沉积电位之间.溶液中Fe2+浓度增加使其共沉积峰位略有负移,且阳极峰值电流逐渐增大;电极转速或扫描速度增大均使共沉积峰位发生负移,使峰值电流增加;溶液pH值减小使共沉积峰位正移,且pH值小于4时几乎无沉积峰;由乙二胺调节溶液pH值比由氨水调节后Pd-Fe合金的共沉积峰位负移;导电盐的存在使共沉积峰位正移,且峰值电流增大.
参考文献
| [1] | Bryden K J;Ying J Y Pulsed .Electrodeposition Synthesis and Hydrogen Absorption Properties of Nanostructured Palladium-Iron Alloy Films[J].Journal of the Electrochemical Society,1998,145(10):3339-3346. |
| [2] | 徐明丽,张正富,杨显万,杨勇彪,马全宝.钯及其合金电镀的研究现状[J].材料保护,2003(10):4-8. |
| [3] | Brenner A.Electrodeposition of Alloys,Principles and Practice[M].New York:Academic Press,Inc,1963 |
| [4] | Joseph A A;Conor A D.Electrodeposition of Palladium and Palladium Alloys.Modern Electroplating[M].John Wiley and Sons Inc,2000 |
| [5] | 李凤凌,杨防祖,李振良,佘沛亮,姚士冰,周绍民.钯镍合金电沉积层的XRD研究[J].材料保护,1999(03):4-5. |
| [6] | 李风凌;姚士冰;周绍民 .高镍Pd-Ni合金组成与性能研究[J].电镀与环保,1999,19(01):10-12. |
| [7] | 王尊本,王润棠.钯铁合金镀液和镀层中钯和铁的同时测定[J].厦门大学学报（自然科学版）,1999(02):257-262. |
| [8] | M. E. Baumgartner;D. R. Gabe .Palladium-iron alloy electrodeposition. Part II: alloy plating systems[J].Transactions of the Institute of Metal Finishing,2000(2):79-85. |
| [9] | Toshiyuki A .Palladium/Iron Alloy Plating Solution and Palladium Alloy Plated Base Material[P].JP 181887,2001-07-03. |
| [10] | 藤屿昭;相泽益男;井上撤;陈震 姚建年.电化学测定方法[M].北京:北京大学出版社,1995 |
| [11] | 黄清安.NaH2PO2对Zn、Zn-Fe合金电沉积的影响[J].材料保护,1996(11):1. |
| [12] | Mimani T;Mayanna S M.Influence of additives on the electrodeposition of nickel from a watts bath:a cyclic voltammetric study[J].Journal of Applied Electrochemistry,1993(23):339-345. |
| [13] | 方景礼.多元络合物电镀[M].北京:国防工业出版社,1983 |
| [14] | 徐明丽 .电沉积Pd-Fe合金镀层的工艺及机理研究[D].昆明理工大学,2004. |
| [15] | 张祖训;汪尔康.电化学原理和方法[M].北京:科学出版社,2000 |
| [16] | 周绍民.金属电沉积--原理与研究方法[M].上海:上海科学技术出版社,1982 |
| [17] | 安特罗波夫;吴仲达;朱耀斌;吴万伟.理论电化学[M].北京:高等教育出版社,1982 |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%