化学镀Ni-Co-W-P合金镀层性能研究

材料保护, 2007, 40(10): 35-38. doi: 10.3969/j.issn.1001-1560.2007.10.011

化学镀Ni-Co-W-P合金镀层性能研究

余祖孝 ^1, , 王莹 ^2, , 李建章 ^3, , 黄建丽 ^4,

1.四川理工学院材料与化学工程系,四川,自贡,643000

2.四川理工学院材料与化学工程系,四川,自贡,643000

3.四川理工学院化学系,四川,自贡,643000

4.四川理工学院材料与化学工程系,四川,自贡,643000

关键词：化学镀Ni-Co-W-P , 45钢 , 沉积速度 , 耐腐蚀性能 , 析氢过电位 , 显微硬度

The Process of Electroless Plating Ni-Co-W-P Alloy

为改善化学镀Ni-Co-W-P合金工艺镀速慢、镀层耐腐蚀性能差、析氢过电位高等问题,研究了镀液组分、pH值、温度、转速、表面.活性剂对45钢上化学镀Ni-Co-W-P合金镀层沉积速度、耐腐蚀性能、镀层厚度、孔蚀率、表面形貌和硬度的影响,得出最佳镀液配方:6 g/L CoSO4,24g/L NiSO4,20 g/L NaH2PO2,20g/L Na2WO4·2H2O,20 g/L(NH4)2S04,24 g/L Na3C6H5O7,11g/L苹果酸,pH值7.0～7.5,温度80℃,搅拌速度30 r/min.结果表明,当pH为7.0～7.5时,沉积速度最大,孔蚀率最少;温度为80℃时,镀层综合性能好,超过80℃时,镀液的稳定性开始下降;转速为30 r/min时,合金镀层的沉积速度达到最大值;加入50 mg/L表面活性荆十二烷基磺酸钠的Ni-Co-W-P合金镀层试样的腐蚀电位(0.191 V)大于未加入十二烷基磺酸钠表面活性荆(0.040 8V)的.

参考文献

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