利用二次离子质谱(SIMS)和X射线衍射(XRD)研究了用于电子封装的以Dy2O3、CaO为添加剂的AlN和以堇青石、BaCO3为添加剂的莫来石陶瓷衬底的物相组成和表面成分,尤其是表面杂质,并利用SIMS尝试探讨了AlN表面热氧化问题.结果表明,AlN和莫来石陶瓷表面不同程度地存在Li、C、F、Na、K、Cl、Ti、Rb等杂质元素的污染;AlN表面存在富O层,在空气中经过850℃10分钟退火后,富O层明显展宽.
参考文献
| [1] | 苏世民 .[J].半导体技术,1994,4:62. |
| [2] | Miyashiro F;Iwase N;Tsuge A et al.[J].IEEE Trans on CHAMT,1990,13(02):313. |
| [3] | Aksay I A;Dabbs D M;Sarikaya M .[J].Journal of the American Ceramic Society,1991,74(10):2343. |
| [4] | Horiuchi M;Takeuchi Y;Wakabayashi S .[J].Semiconductor International,1989,12(09):110. |
| [5] | 陈新;陈春华;王佑祥 .[J].真空科学与技术,1995,15(04):262. |
| [6] | Watari K;Tsuzuki A;Torri Y .[J].Journal of Materials Science Letters,1992,11:1508. |
| [7] | 刘耀城;吴音;缪卫国;周和平 .[J].清华大学学报(自然科学版),1996,36(z1):20. |
| [8] | 吴铧;沈电洪 .[J].真空科学与技术,1995,15(03):172. |
| [9] | Katnani A D;Papathomas K I .[J].Journal of Vacuum Science and Technology A-Vacuum Surfaces and Films,1987,5(04):1335. |
| [10] | Suryanarayana D;Matienzo L J;Spencer D F .[J].IEEE Trans on CHAMT,1989,12(04):566. |
| [11] | Suryanarayana D .[J].Journal of the American Ceramic Society,1990,73(04):1108. |
| [12] | Robinson D;Dieckmann R .[J].Journal of Materials Science,1994,29:1949. |
| [13] | Iwase N;Anzai K;Shinozaki K .[J].Solid State Technology,1986,29(10):135. |
| [14] | 靳正国;徐廷献;胡宗民 等.[J].硅酸盐学报,1996,24(01):20. |
| [15] | Anderson R M;Gerhardt R;Wachtman J B .[J].Avd Cera,1986,26:265. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%