激光诱导化学气相沉积法制备纳米氮化硅及粉体光谱特性研究

1.中国科学院安徽光学精密机械研究所,合肥,230031;山东道钬纳米技术研究院,济南,250100

2.中国科学院安徽光学精密机械研究所,合肥,230031;山东道钬纳米技术研究院,济南,250100

3.中国科学院安徽光学精密机械研究所,合肥,230031;山东道钬纳米技术研究院,济南,250100

4.中国科学院安徽光学精密机械研究所,合肥,230031

5.山东道钬纳米技术研究院,济南,250100

Study on Preparation of Silicon Nitride Nano-Powder with LICVD Technique and the Optical Characteristics of the Powder

氮化硅是优良的陶瓷材料,应用广泛.本文研究了激光诱导化学气相沉积法制备纳米氮化硅的工作原理,提出了减少游离硅的措施,利用双光束激发制备了超微的、非晶纳米氮化硅粉体.实验证明,纳米氮化硅粉体具有一些特殊的物理性能和光谱特性.

[1]	李道火;仲志英 .激光合成非晶态Si3N4粉末[J].激光技术,1991,15(04):220-224.
[2]	栾松岩;秦汝虎 .用激光驱动气相反应制备Si3N4超细粉[J].无机材料学报,1990,5(03):245-250.
[3]	张立德;牟季美.纳米材料和纳米结构[M].北京:科学出版社,2001
[4]	黄政仁;江东亮 .SiC和Si3N4纳米陶瓷粉体制备技术[J].硅酸盐学报,1996,24(05):570-576.
[5]	王颖;朱震刚;蔡树芝 .LICVD制备纳米固体块材装置的研制[J].仪器仪表学报,1997,18(02):221-224.
[6]	SHI J L;Gao J H;Lin Z X .Formation of monosized spherical aluminum hydroxide particles by urea method[J].Solid State Ionics,1989,32(01):537-543.
[7]	Blendell J E;Bowen H K;Coble R L .Controlled precipitation of high purity alumina precursors[J].American Ceramic Society Bulletin,1984,63(06):797-799.
[8]	郭向云,王建国.纳米微粒生长过程的分子动力学研究[J].燃料化学学报,2001(z1):255-258.
[9]	代建清,黄勇,谢志鹏,杨金龙.氮化硅粉末的傅里叶变换红外光谱研究[J].光谱实验室,2001(01):78-83.

上一张下一张

计量

作者相关

文章评分