将硅灰(w(SiO2)=94.5%,平均粒度0.08 μm)和氮化硅(粒度≤0.074 mm)按11质量比混合后成型,在空气中埋炭条件下分别经1 300 ℃、1 450 ℃、1 500 ℃、1 550 ℃、1 600 ℃处理3 h后水冷,对其显微结构及物相进行了分析.结果表明:在1 550 ℃以上,以硅灰和氮化硅为原料反应生成Si2N2O比较明显,氮化硅颗粒的边角变得圆滑,而且分布在含Si2N2O的连续胶结相中,形成胶结相包裹Si3N4的致密结构;1 500 ℃以下,氮化硅仍然棱角分明,基本上未形成Si2N2O,只是硅灰中的SiO2析晶,析晶比较显著的温度为1 300 ℃.
参考文献
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