用周期伏安法和动电位单向扫描技术研究低碳铜在氢氧化钠溶液中的电化学腐蚀行为.伏安图形状与起始电位、扫描速率和溶液成分有关,氢氧化钠溶液中含氯离子时会产生明显的孔蚀.在不含氯离子和含氯离子的氢氧化钠溶液中9偏钒酸盐对低碳钢可作为缓蚀剂使用.在25~45℃温度区间,偏钒酸根的缓蚀作用无实质性变化.
参考文献
[1] | Drazic D M;Chen Shenhao .Inhibition of the anodic dissolution of iron in alkeline solution by metal complex inos[J].Corrosion Science,1983,23(07):683-686. |
[2] | Haleem S M;A Aal.Factors affecting the dissolution of mild steel in alkali solutions[J].Corrosion Prevention and Control,1982(02):13-18. |
[3] | 周本省;杨静新 .热钾碱溶液中钒酸盐缓蚀剂的临界致钝浓度[J].中国腐蚀与防护学报,1986,6(03):197-204. |
[4] | 蒋馥华;黄克勤;傅少丽 .V2O5对铁在碱溶液中孔蚀的抑制作用[J].腐蚀与防护,1991,12(05):228-230. |
[5] | 宋诗哲.腐蚀电化学研究方法[M].北京:化学工业出版社,1988:189. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分:
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%