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用周期伏安法和动电位单向扫描技术研究低碳铜在氢氧化钠溶液中的电化学腐蚀行为.伏安图形状与起始电位、扫描速率和溶液成分有关,氢氧化钠溶液中含氯离子时会产生明显的孔蚀.在不含氯离子和含氯离子的氢氧化钠溶液中9偏钒酸盐对低碳钢可作为缓蚀剂使用.在25~45℃温度区间,偏钒酸根的缓蚀作用无实质性变化.

参考文献

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