分离靶多弧离子镀Nb-Al合金薄膜及其热腐蚀行为

表面技术 , 2000, 29(4): 18-20. doi: 10.3969/j.issn.1001-3660.2000.04.008

分离靶多弧离子镀Nb-Al合金薄膜及其热腐蚀行为

张扬伟 ^1, , 王秀兰 ^2, , 李德俊 ^3, , 王富岗 ^4, , 林国强 ^5,

1.大连理工大学材料工程系,大连,116024

2.大连理工大学材料工程系,大连,116024

3.大连理工大学材料工程系,大连,116024

4.大连理工大学材料工程系,大连,116024

5.大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连,116024

关键词：多弧离子镀 , 分离靶 , 薄膜 , 热腐蚀 , 镀合金

Study on the hot corrosion behavior of Nb-Al films prepared by multi-arc ion plating with separate targets

采用分离靶多弧离子镀技术,通过改变基片负偏压和分离靶弧电流以及镀膜时间等参数,在310SS(stainless steel)基片上制备了多种成分的Nb1-xAlx(0.38＜x＜0.64)合金薄膜.结果表明,选择适当的基片负偏压和分离靶弧电流可制得所需成分的二元合金薄膜.对所制备的Nb1-xAlx薄膜,分别做了600℃、900℃的热腐蚀实验(低温热腐蚀和高温热腐蚀),热腐蚀实验表明,该薄膜具有较好的抗热腐蚀能力.

参考文献

[1]	田民渡;刘德令.薄膜科学与技术手册[M].北京:机械工业出版社,1991:468-492.
[2]	张钧.多弧离子镀合金涂层/靶材成分离析现象的初步研究[J].真空,1994(04):44.
[3]	Martin PJ.;Wielunski LS.;Katardjiev I.;Berg S.;Bendavid A. .PREFERENTIAL SPUTTERING EFFECTS IN THE DEPOSITION OF TIAL FILMS BY FILTERED CATHODIC ARC DEPOSITION[J].Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms,1997(2):207-209.
[4]	李金桂;赵国彦.腐蚀与防护手册[M].北京:国防工业出版社,1988
[5]	唐兆麟 .钛铝金属间化合物的高温防护涂层[D].中国科学院金属腐蚀与防护研究所,1997.

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分离靶多弧离子镀Nb-Al合金薄膜及其热腐蚀行为

Study on the hot corrosion behavior of Nb-Al films prepared by multi-arc ion plating with separate targets

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