磁控溅射中工作压强对钛膜沉积的影响

1.西华大学材料科学与工程学院,四川,成都,610039

2.西华大学材料科学与工程学院,四川,成都,610039

3.四川理工学院,四川,自贡,643000

4.西华大学材料科学与工程学院,四川,成都,610039

基金项目: 国家高技术研究发展计划(863计划)(2002AA324010)

Effect of Working Pressure on Ti Thin Film Deposited by Magnetron Sputtering

为了研究在磁控溅射工艺中溅射电流和溅射时间恒定的情况下,氩气工作压强的变化对钛膜在基底表面沉积的影响,通过用原子力显微镜分析钛膜的厚度和均方根粗糙度的方法来进行.结果表明:工作压强达到1.1Pa后, Ti膜的厚度及均方根粗糙度都随压强的增大而减小.由此说明,工作压强的变化对钛膜沉积有较大影响.

[1]	白彬,严东旭,梁红伟,张厚亮,陆雷.高能离子束辅助沉积制备钛纳米膜[J].机械工程材料,2005(11):67-70.
[2]	齐红基,程传福,袁景梅,邵建达,范正修.用离子束溅射方法制备的钛薄膜表面形貌分析[J].光学学报,2003(04):480-484.
[3]	温培刚,颜悦,张官理,望咏林.磁控溅射沉积工艺条件对薄膜厚度均匀性的影响[J].航空材料学报,2007(03):66-68.
[4]	Chiarello R;Panella V;Krim J .X-ray reflectivity and adsorption isotherm study of fractal scaling in vapor-deposited film[J].Physical Review Letters,1991,67(24):3 408-3 411.
[5]	A. Ulyanenkov;R. Matsuo;K. Omote .X-ray scattering study of interfacial roughness correlation in Mo/Si multilayers fabricated by ion beam sputtering[J].Journal of Applied Physics,2000(10):7255-7260.
[6]	金永中,刘东亮,陈建,吴卫.磁控溅射工艺对纳米Ti膜形貌的影响[J].四川理工学院学报（自然科学版）,2006(04):49-51.
[7]	程丙勋 .磁控溅射制备Al膜和Cu膜的结构与性能研究[D].四川大学,2007.

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