目前,普遍采用射频溅射制备以氧化铝为介质基体的太阳能选择吸收涂层,但射频溅射成本高、效率低.以乙酰丙酮铝为前驱体,采用金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)方法,在不锈钢基体上制备碳一氧化铝太阳能选择吸收涂层,大大降低了涂层成本.研究了栽气成分、沉积时间对膜层成分和吸收率的影响.结果表明:在沉积温度为600℃、载气氧含量为3%、沉积时间4h时获得了吸收率α为0.91的涂层.
参考文献
[1] | 谢光明.光谱选择性吸收涂层[J].太阳能,1998(03):14-15. |
[2] | 谢红梅,张碧云,卢春灿,聂朝胤.金属和陶瓷配副件条件下TiN薄膜的摩擦学特性[J].表面技术,2008(03):9-11,32. |
[3] | 阎鑫,张秋禹.MOCVD法制备高温抗氧化铱涂层研究进展[J].宇航材料工艺,2003(02):1-3,9. |
[4] | 罗小秋,温吉利,刘炯,孙启凤.常压下MOCVD法制备Al2O3薄膜工艺的研究[J].中国表面工程,2007(03):47-50. |
[5] | Pradhan SK.;Reucroft PJ.;Ko YK. .Crystallinity of Al2O3 films deposited by metalorganic chemical vapor deposition[J].Surface & Coatings Technology,2004(3):382-384. |
[6] | Sudarshan T S;范玉殿.表面的改性技术[M].北京:清华大学出版社,1992:135-188. |
[7] | M P SINGH;G RAGHAVAN;A K TYAGI .Carbonaceous alumina films deposited by MOCVD from aluminium acetylacetonate: a spectroscopic ellipsometry study[J].Bulletin of Materials Science,2002(2):163-168. |
[8] | Nable J.;Gulbinska M.;Suib SL.;Galasso F. .Aluminum oxide coating on nickel substrate by metal organic chemical vapor deposition[J].Surface & Coatings Technology,2003(1):74-80. |
[9] | Singh M P;Shivashankar S A .Low-pressure MOCVD of Al2O3 films using aluminium acetylacetonate as precursor:nucleation and growth[J].Surface and Coatings Technology,2002,61:135-143. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分:
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%