膜和基体之间的结合强度是评价膜层质量的一项重要指标,镁合金等离子体电解氧化生成的类陶瓷层具有较好的结合力,但大量研究并未对膜层的结合机理进行深入的探讨.采用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)等方法对氧化膜的相组成和形貌特征进行研究,着重对膜层的结合机理进行分析和探讨.结果表明,微弧区瞬间的高温高压大大促进了孔壁附近膜里的氧和镁离子、铝离子间相互扩散,PEO膜层与基体的结合机理可以理解为冶金结合;XRD分析表明膜层并不存在碳和钠的化合物相,表明碳原子和钠原子并没有直接参与成膜反应,它们应该是通过沉积作用镶嵌在膜层的空隙中,因此这些原子与膜层的结合机理应该属于机械结合.
参考文献
[1] | 张津;章宗和.镁合金及应用[M].北京:化学工业出版社,2004 |
[2] | William MeNeill .The preparation of cadlnium niobate by an anodic spark reaction[J].Journal of the Electrochemical Society,1958,105(09):544-547. |
[3] | 陈昌华,刘晓烈,孙立喜,潘辉,冯崇敬.适合着色的镁合金多孔氧化膜的工艺研究[J].表面技术,2008(02):61-63,87. |
[4] | 朱祖芳.铝合金阳极氧化与表面处理技术[M].北京:化学工业出版社,2004:313-314. |
[5] | 张永君,严川伟,王福会.镁阳极氧化膜微观结构和防护性能的比较[J].腐蚀科学与防护技术,2004(01):1-4. |
[6] | 薛文彬;邓志威;来永春 等.ZM5镁合金微弧氧化膜的生长规律[J].金属热处理学报,1998,19(03):42-45. |
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