研究了室温下含有NdCl3、CoCl2、极性非质子溶剂二甲基甲酰胺及少量水的溶液中电沉积制备Co-Nd稀土功能合金膜.在控制溶液中NdCl3+CoCl2的总量为0.2 mol/L的电镀液中以-3.00 V进行恒电位电镀;电流密度为15 mA/cm2进行恒电流电镀或脉冲电流密度5~15 mA/cm2进行脉冲电镀,可得到不同形态和不同的Nd的质量分数的稀土功能合金膜.
参考文献
[1] | 石春山.稀土元素在功能材料方面的应用[J].稀土,1987(03):58. |
[2] | Tamazawas T;Takshsshi M;Ishia H.Electrolytic preparation of Sm-Co thin films and their magnetic properties[J].Plating and Surface Finishing,1993(03):72. |
[3] | Matsada T F;Yoshimoto N;Morita M.Pulsed Electrodeposition of Dy-Fe[J].Journal of Alloys and Compounds,1993(193):23. |
[4] | P.P. Kumbhar;C.D. Lokhande .Electrodeposition of Yttrium from a Nonaqueous Bath[J].Metal finishing,1995(4):28,30-31-0. |
[5] | 苟劲,徐红,谷历文.DMF中电沉积制备Yb-Co合金膜[J].材料保护,2000(11):13-14. |
[6] | 徐红;谷历文 .DMF中电沉积制备Yb-Ni合金膜[J].电镀与环保,2000,20(04):8-10. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分:
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%