N,N-二甲基甲酰胺自组装膜对铜的缓蚀作用

电镀与精饰 , 2011, 33(1): 35-37. doi: 10.3969/j.issn.1001-3849.2011.01.009

N,N-二甲基甲酰胺自组装膜对铜的缓蚀作用

相永刚 ^1, , 王春涛 ^2, , 王晶 ^3, , 韩继红 ^4,

1.太原师范学院,化学系,山西,太原,300031

2.太原师范学院,化学系,山西,太原,300031

3.太原师范学院,化学系,山西,太原,300031

4.太原师范学院,化学系,山西,太原,300031

关键词：自组装膜 , 交流阻抗 , 稳态极化 , 缓蚀

The Inhibition Effects of N,N-Dimethylformamide Self-assembled Films for Copper

将铜电极浸泡在不同浓度的N,N-二甲基甲酰胺溶液中,分别制备了各种自组装膜,用交流阻抗和稳态极化曲线研究了每种自组装膜在中性NaCl溶液中对金属铜的缓蚀作用,结果表明0.1mmol/L的N,N-二甲基甲酰胺溶液的自组装膜在0.5mol/L的NaCl溶液中对铜有较好的缓蚀效果,缓蚀效率为95.97%.

参考文献

[1]	王宁;童汝亭;邵会波 .自组装单分子膜及其在电化学中的应用[J].河北师范大学学报（自然科学版）,2001,4:28-32.
[2]	崔晓莉;江志裕 .自组装膜技术在金属腐蚀中的应用研究[J].腐蚀与防护,2001,22(08):335-338.
[3]	马厚义,陈慎豪,全贞兰,牛林,李淑兰.卤离子溶液中邻香兰素邻苯二胺对铜的缓蚀作用[J].电化学,2000(01):31-39.
[4]	王春涛,陈慎豪,牛林,李德刚.咔唑和硫醇混合自组装缓蚀功能膜的电化学研究[J].山东大学学报(理学版),2002(06):532-536.

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The Inhibition Effects of N,N-Dimethylformamide Self-assembled Films for Copper

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