磁控溅射偏压对Cr薄膜密度以及表面形貌的影响

电镀与精饰 , 2016, 38(7): 1-8. doi: 10.3969/j.issn.1001-3849.2016.07.001

磁控溅射偏压对Cr薄膜密度以及表面形貌的影响

孙钢杰 ^1, , 伊福廷 ^2, , 王焕华 ^3, , 贾全杰 ^4, , 张天冲 ^5,

1.中国科学院高能物理研究所多学科中心,北京,100049

2.中国科学院高能物理研究所多学科中心,北京,100049

3.中国科学院高能物理研究所多学科中心,北京,100049

4.中国科学院高能物理研究所多学科中心,北京,100049

5.中国科学院高能物理研究所多学科中心,北京,100049

关键词： X-射线反射率分析 , 铬薄膜 , 密度 , 表面形貌 , 磁控溅射 , 偏压

Influences of Bias Voltage on Density and Surface Morphology of Chromium Thin Films in Magnetron Sputtering

Keywords： X-ray reflection analysis , chromium thin film , density , surface morphology , magnetron sputtering , bias voltage

利用磁控溅射技术,在不同偏压条件下在Si(001)基底上沉积了金属Cr薄膜样品.用同步辐射装置对样品进行了X-射线反射率测试,采用X-射线反射率分析法研究了不同偏压下Cr薄膜密度的变化.发现当偏压小于300V时,偏压对所沉积的薄膜起到紧致的效果,偏压为300V时薄膜密度最大;当偏压大于300V时,薄膜密度减小.另外,为了探究偏压对薄膜表面形貌的影响,用扫描电子显微镜对各样品进行了表面分析,发现在偏压较小时薄膜表面较为平整;随着偏压增大,表面呈现界面分明的岛状分布.

参考文献

[1]	刘宗贺;方雪冰;刘波;凌味未.直流磁控溅射铬膜附着性的影响因素研究[J].实验科学与技术,2006(1):31-32,43.
[2]	闫卫平;朱剑波;马灵芝;郭吉洪.Cr金属薄膜温度传感器的研究[J].仪器仪表学报,2004(z1):310-311.
[3]	宋文龙;邓建新;赵金龙.磁控溅射薄膜附着性能的影响因素[J].工具技术,2007(10):20-23.
[4]	林建平;林丽梅;关贵清;吴扬微;赖发春.磁控溅射制备铬薄膜的结构和光电学性质[J].光子学报,2012(8):922-926.
[5]	谷文翠;李寿德;王怀勇;陈春立;李朋;黄峰.基片偏压对磁控溅射制备TiB2涂层结构及性能的影响[J].航空材料学报,2014(5):37-42.
[6]	于吉顺;陆琦;肖平;张锦化.X射线反射（XRR）对薄膜样品厚度的研究[J].功能材料,2008(2):199-201.
[7]	Scott T. Misture.Characterization of Glass Surfaces and Coatings Using X-ray Reflectivity[J].American Ceramic Society bulletin,20041(1):27-29.

上一张下一张

计量

下载量()
访问量()

作者相关

文章评分

您的评分：
1

0%
2

0%
3

0%
4

0%
5

0%

材料期刊网

磁控溅射偏压对Cr薄膜密度以及表面形貌的影响

Influences of Bias Voltage on Density and Surface Morphology of Chromium Thin Films in Magnetron Sputtering

参考文献