磁控溅射掺碳TiB2薄膜的Raman光谱与摩擦行为

材料工程, 2012, (8): 30-38. doi: 10.3969/j.issn.1001-4381.2012.08.007

磁控溅射掺碳TiB2薄膜的Raman光谱与摩擦行为

许晓静 ^1, , 盛新兰 ^2, , 张体峰 ^3, , 刘敏 ^4, , 辛喜玲 ^5,

1.江苏大学先进成形技术研究所,江苏镇江212013

2.江苏大学先进成形技术研究所,江苏镇江212013

3.江苏大学先进成形技术研究所,江苏镇江212013

4.江苏大学先进成形技术研究所,江苏镇江212013

5.江苏大学先进成形技术研究所,江苏镇江212013

基金项目: 江苏大学"拔尖人才工程"培育基金资助项目(1211110001) 江苏省摩擦学重点实验室基金资助项目(kjsmcx06005)

关键词：掺碳 , TiB2薄膜 , 中间层 , 摩擦因数 , 磁控溅射

Raman Spectrum and Friction Behaviors of Carbon-doped TiB2 Films Prepared by Magnetron Sputtering

采用磁控溅射技术,使用SiC薄膜和Ti膜作为中间层在Cr12MoV钢表面制备掺碳TiB2 (TiB2-C)薄膜,研究掺碳TiB2薄膜的Raman光谱、纳米压痕和摩擦行为.结果表明:溅射功率过高或过低都不利于掺入的C元素在薄膜中以DLC形式存在；C元素掺杂降低了TiB2薄膜的纳米硬度和弹性模量；以DLC形式存在的掺入的C能有效降低室温干摩擦(Si3N4球对摩件)条件下TiB2薄膜的摩擦因数.

参考文献

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