固结磨料抛光LBO晶体非水基抛光液优化

功能材料, 2016, 47(2): 2051-2054. doi: 10.3969/j.issn.1001-9731.2016.02.011

固结磨料抛光LBO晶体非水基抛光液优化

宋龙龙 ^1, , 李军 ^2, , 王文泽 ^3, , 胡章贵 ^4, , 朱永伟 ^5, , 左敦稳 ^6,

1.南京航空航天大学机电学院,南京,210016

2.南京航空航天大学机电学院,南京,210016

3.南京航空航天大学机电学院,南京,210016

4.中国科学院理化技术研究所功能晶体与激光技术重点实验室,北京,100190

5.南京航空航天大学机电学院,南京,210016

6.南京航空航天大学机电学院,南京,210016

基金项目: 江苏省博士后科研计划资助项目(1302069B) 中国博士后科学基金资助项目(2014M551586) 国家自然科学基金资助项目(51175260)

关键词：固结磨料抛光 , 非水基抛光液 , 材料去除率 , 表面粗糙度

Optimization of non-water based slurry in fixed abrasive polishing of LBO crystal

Keywords： fixed abrasive polishing , non-water based slurry , material removal rate , surface roughness

三硼酸锂(LBO)晶体是优良的非线性光学晶体材料,抛光后晶体表面水份残留导致晶体潮解,影响器件的使用性能.采用非水基抛光液固结磨料抛光LBO晶体,降低水含量,研究非水基抛光液中去离子水、乳酸、双氧水等含量对材料去除率和表面粗糙度的影响,并综合优化得到高材料去除率和优表面质量的抛光液组分.研究表明,抛光液中去离子水浓度16％、乳酸22％、双氧水5％为最优抛光液组分,采用优化的抛光液固结磨料抛光LBO晶体的材料去除率达到392 nm/min,表面粗糙度为0.62 nm,实现了LBO晶体表面的高效高质量抛光,同时避免了抛光过程中水的大量使用.

参考文献

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