采用交流阻抗法和恒电位阶跃法研究了在硼砂缓冲溶液(pH9.2)中BTA及其系列衍生物CBTME,CBTBE对Cu电极的缓蚀行为.结果表明:BTA对Cu的缓蚀作用是由于在Cu表面上生成了Gu/Cu2O/Cu(I)BTA膜,阻滞了Cu的腐蚀,而且缓蚀剂的浓度越高,生成的Cu/Cu2O/Cu(I)BTA膜越致密,抑制作用越强.含CBTME缓蚀剂的溶液中,缓蚀效果随缓蚀剂浓度的升高而增强,但同浓度比较时,BTA的缓蚀效果优于CBTME.当溶液中含有较低浓度CBTBE时,缓蚀剂促进Cu的腐蚀;而当溶液中含有较高浓度CBTBE时,缓蚀剂才抑制Cu的腐蚀.一定比例的BTA和CBTME复配后对Cu的缓蚀作用有协同效应.以5 mg/L为缓蚀剂总量,其最佳复配方案为2 mg/LBTA+3 mg/L CBTME.恒电位阶跃法测得的结果与交流阻抗方法测得的结果相符.
参考文献
[1] | Wu Y P, Zhou G D, Notoya T, et al. Bull. Electrochem.,1994,10(11 ~ 12):439 |
[2] | Zhou G D, Ma Z C, Tong R T, et al. Bull. Electrochem.,1991,7(2):60 |
[3] | 徐群杰,周国定,陆柱.华东理工大学学报,1998,24(3):324 |
[4] | 童汝亭,马子川,周国定等.化学研究与应用,1996,8(3):329 |
[5] | Chadwick D, Hashemi T. Corros. Sci., 1978, 18:39 |
[6] | Fox P G, Lewi S G, Boden P L. Corros. Sci., 1979, 19:457 |
[7] | Tromans D, Sun R H. J. Electrochem. Soc., 1992, 139(7) 1945 |
[8] | 汪知恩,周国定,徐群杰.中国腐蚀与防护学报,1998,18:57 |
[9] | Chialvo M R G, Saluarezza R C, Moll D V, et al. Electrochim.Acta, 1985, 30:1501 |
[10] | Souto R M, Gonzalez S, Salvarezza R C, et al. Electrochim. Acta, 1994, 39:2619 |
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