低温、低浓度镀铬工艺的控制

电镀与涂饰 , 2001, 20(3): 21-23. doi: 10.3969/j.issn.1004-227X.2001.03.006

低温、低浓度镀铬工艺的控制

王贵昆 ^1, , 刘德才 ^2, , 谢洪波 ^3, , 张来祥 ^4,

1.中国轻骑集团青岛鸿达总厂电镀分厂,

2.中国轻骑集团青岛鸿达总厂电镀分厂,

3.青岛综合中专学校电镀教研室,

4.青岛综合中专学校电镀教研室,

关键词：镀铬 , 低温 , 低铬酐浓度

Control of chromium plating in low chromic anhydride-containing bath at low temperature

低温、低浓度镀铬具有其独特的优点，已推广使用多年。本文根据多年的生产实践，总结了低温、低浓度镀铬中铬酐浓度、硫酸根浓度、稀土添加剂、温度、电流密度以及阳极等因素对镀液、镀层性能的影响，并提出了管理措施。

Chromium plating in low chromic anhydride-containing bath at low temperature has been widely used for years for its peculiar advantages. Herein, the effect of chromic anhydride content, sulfate content, rare earth additive, temperature, current density and anode on properties of bath and chromium deposits was discussed, and maintenance of the process was presented.

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