Ni/α-Al2O3纳米复合电镀工艺的研究第三部分——采用双脉冲电源电镀时电源参数的优化

电镀与涂饰 , 2007, 26(5): 35-37. doi: 10.3969/j.issn.1004-227X.2007.05.011

Ni/α-Al2O3纳米复合电镀工艺的研究第三部分——采用双脉冲电源电镀时电源参数的优化

刘建平 ^1, , 高中平 ^2, , 彭元芳 ^3, , 赵国鹏 ^4, , 曾振欧 ^5,

1.广州市二轻工业科学技术研究所,广东,广州,510170

2.广州市二轻工业科学技术研究所,广东,广州,510170

3.广州市二轻工业科学技术研究所,广东,广州,510170

4.广州市二轻工业科学技术研究所,广东,广州,510170

5.广州市二轻工业科学技术研究所,广东,广州,510170

基金项目: 广东省广州市科技攻关项目(2002Z2-D2011) 广州电沉积开放实验室资助项目

关键词： α-Al2O3 , 纳米复合电镀 , 周期换向脉冲 , 耐蚀性

Study on Ni/α-Al2O3 nanocomposite plating Part Ⅲ-Optimal parameters under reverse pulse plating

采用双脉冲电源,研究了电源参数对Ni/α-Al2O3纳米复合镀层耐蚀性的影响,得到最佳的脉冲参数为:正向脉冲频率1000 Hz,正向脉冲占空比0.4,正向工作时间5 ms,正向平均电流密度1.1 A/dm2,反向脉冲频率1 000 Hz,反向脉冲占空比0.4,反向工作时间1 ms,反向平均电流密度0.44 A/dm2.

参考文献

[1]	PODLAHA E J;LANDOLT D .Pulse-reverse plating of nanocomposite thin films[J].Journal of the Electrochemical Society,1997,144(07):L200-L202.
[2]	GYFTOU P;STROUMBOULI M;PAVLATOU E A et al.Electrodeposition of Ni/SiC composites by pulse electrolysis[J].Trans IMF,2002,80(03):88-91.
[3]	Wun-Hsing Lee;Sen-Cheh Tang;Kung-Cheng Chung .Effects of direct current and pulse-plating on the co-deposition of nickel and nanometer diamond powder[J].Surface & Coatings Technology,1999(0):607-611.
[4]	刘建平,高中平,彭元芳,赵国鹏,曾振欧.Ni/α-Al2O3纳米复合电镀工艺的研究第二部分--采用直流电源电镀时的最佳工艺参数[J].电镀与涂饰,2007(04):32-34.

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Study on Ni/α-Al2O3 nanocomposite plating Part Ⅲ-Optimal parameters under reverse pulse plating

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