用于制备纳米多层膜的金属掩膜法的研究

1.天津理工学院,材料科学与工程系,天津,300191

2.天津理工学院,材料科学与工程系,天津,300191

3.天津理工学院,材料科学与工程系,天津,300191

4.天津理工学院,材料科学与工程系,天津,300191

5.天津理工学院,材料科学与工程系,天津,300191

基金项目: 天津市高等学校科技发展基金(01-20216)

Study on metallic mask method for preparing nano-multilayers

简介了现有金属掩膜法制备纳米多层膜的过程,指出采用定位图形套准模板存在的弊端,研制出采用定位框固定基片、套准模板的制备新方法及装置.试验表明,采用该方法可显著提高制备纳米多层膜的完好率及套准精度.

[1]	薛钰芝 .多层膜的研究进展[J].大连铁道学院学报,1994,15(03):70-73.
[2]	由臣,赵燕平,刘技文,陈民芳.用于制备磁隧道结的模板套准新方法及装置[J].新技术新工艺,2003(06):45-46.
[3]	田民波.薄膜科学与技术手册[M].北京:机械工业出版社,1991
[4]	Miyazaki T;Tezuka N .Giant magnetic tunneling effect in Fe/Al2O3/Fe junction[J].Journal of Magnetism and Magnetic Materials,1995,139:231-234.
[5]	白海力,姜恩永.磁隧道结（MTJ）[J].科学通报,2001(02):92-99.

上一张下一张

计量

作者相关

文章评分