采用熔融法分别制备出掺钕氟氧化物玻璃和锂铝硅氧化物玻璃.采用UV-vis-NIR分光光度计和荧光光谱仪测定两种玻璃基质材料的透过率、吸收光谱和荧光光谱.紫外光区透过率的细微差异是氧化物和氟化物电子构型不同造成的.可见光和红外光区透过率差异是阳离子半径不同和基质材料密度不均匀引起的.主要吸收峰位于523、582、744、802、870nm处,分别对应于钕离子的4I9/2→4G7/2、4I9/2→2H11/2、4I9/2→4F7/2、4I9/2→4F5/2和4I9/2→4F13/2吸收跃迁.位于892、1057、1107、1333 nm处的荧光发射中心,分别对应于钕离子的4F3/2→4I9/2、4F3/2→4I1/2和4F3/2→4I13/2辐射跃迁.氟氧化物玻璃在892、1107、1 333 nm处的荧光光谱强度明显高于氧化物玻璃,两者在1057 nm处的发光强度基本一致.由于钕离子进入低声子能量的氟化物中,无辐射跃迁损失小,氟氧化物玻璃基质的量子效率高于氧化物玻璃基质的量子效率.
参考文献
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