欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

对用CVI法制备的SiCp/SiC复合材料的氧化性能进行了研究.材料含有的气孔和破坏氧化膜连续性的杂质元素,为氧气扩散提供通道;氧化过程中形成的气孔,导致了新的自由表面的暴露和空气扩散通道,进而加剧氧化.在材料的高温氧化过程中,SiC的氧化生成SiO2膜导致试样质量增加,玻璃碳界面层的氧化生成CO的逸出导致试样质量损失.最后的质量变化是这两种综合作用的结果.在高温氧化过程中,材料的空隙增多,应力集中加强,界面层被破坏使SiCp/SiC复合材料的强度下降.

参考文献

[1] 江东亮 .碳化硅基复合材料[J].无机材料学报,1995,10(02):152-163.
[2] Jamet J F;Lamicq P J.High temperature ceramic matrix composites[M].London:Woodhead Publications,1993:235-243.
[3] Filipuzzi L;Naslain R;Jaussaud C .Oxidation kinetics of SiC deposited from CHSiCl/H under CVI conditions[J].Journal of Materials Science,1992,27(12):3330-3334.
[4] Jurgen Schlichting .Oxygen transport through silica surface layers on silicon containing ceramic materials[J].High Temperature and High Pressure,1982,14:717-724.
[5] 潘牧,南策文.碳化硅(SiC)基材料的高温氧化和腐蚀[J].腐蚀科学与防护技术,2000(02):109-113,120.
上一张 下一张
上一张 下一张
计量
  • 下载量()
  • 访问量()
文章评分
  • 您的评分:
  • 1
    0%
  • 2
    0%
  • 3
    0%
  • 4
    0%
  • 5
    0%