蓝宝石衬底上制备SiO2薄膜的研究

材料科学与工艺, 2005, 13(2): 131-134. doi: 10.3969/j.issn.1005-0299.2005.02.006

蓝宝石衬底上制备SiO2薄膜的研究

冯丽萍 ^1, , 刘正堂 ^2, , 刘文婷 ^3, , 李阳平 ^4, , 陈继权 ^5,

1.西北工业大学,材料科学与工程学院,陕西,西安,710072

2.西北工业大学,材料科学与工程学院,陕西,西安,710072

3.西北工业大学,材料科学与工程学院,陕西,西安,710072

4.西北工业大学,材料科学与工程学院,陕西,西安,710072

5.西北工业大学,材料科学与工程学院,陕西,西安,710072

基金项目: 国防预研基金(41312040402)

关键词：磁控反应溅射 , 蓝宝石 , 二氧化硅薄膜

Investigation on SiO2thin films prepared on sapphire

采用射频磁控反应溅射法,以高纯Si为靶材,高纯O2为反应气体,成功地在蓝宝石基片上制备出了二氧化硅(SiO2)薄膜,并对薄膜的沉积速率、成分、结构及红外光学性能进行了研究.结果表明,制备的SiO2薄膜与蓝宝石衬底结合牢固;和其它镀膜技术相比,射频磁控反应溅射法可以在较低的温度下制备出SiO2薄膜;制备出的SiO2薄膜在3～5μm波段对蓝宝石衬底有明显的增透效果.

参考文献

[1]	Schmid F;KHATTAK C P .Current status of sapphire technology for window and dome applications[J].Proc SHE,1989,1112:25-30.
[2]	Schmid F;KHATrAK C P .Correlation of sapphire quality with uniformity and optical properties[J].Proceedings of SPIE,1997,3060:250-257.
[3]	LINDA F JOHNSON;MARK B .Compressive coatings for strengthened sapphire[J].Proceedings of Spie,1999,3705:130-141.
[4]	王英剑,王靖,宋永香,张虹,李庆国,范正修.白宝石窗口增透膜的研究[J].中国激光,2001(08):765-768.
[5]	李学丹;万学英;姜祥祺.真空沉积技术[M].杭州:浙江大学出版社,1994
[6]	J L 沃森;W.克恩.薄膜加工工艺[M].北京:机械工业出版社,1987
[7]	唐伟忠.薄膜材料制备原理、技术及应用[M].北京:冶金工业出版社,1998

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