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为确定配制稳定的纳米γ-Al2O3化学机械抛光(CMP)浆料的工艺条件,通过润湿性、Zeta电位及黏度的测定,研究了溶液pH值及添加分散剂等因素对水相体系纳米γ-Al2O3悬浮液分散稳定性能的影响.结果表明,在纳米γ-Al2O3固含量为6%的浆料中,加入异丙醇胺作为分散剂,其用量为γ-Al2O3粉体质量的1%,同时控制浆料的pH值约为4时,纳米γ-Al2O3粉末的润湿性能最佳,此时浆料Zeta电位值较高,黏度较小;在该条件下成功获得长时间不沉降的稳定浆料.

参考文献

[1] MALIK F;HASAN M .Manufacturability of the CMP process[J].Thin Solid Films,1995,270:612-615.
[2] 江瑞生 .集成电路多层结构中的化学机械抛光技术[J].半导体技术,1998,23(01):6-9.
[3] 边纯二;别府敏保;南川康大.CMP装置の特征と今后の展开[J].电子材料(日本),1994(03):91-96.
[4] JIANG M;NELSON O;WOOD .On CMP of silicon nitride ( Si3N4) work material with various abrasives[J].Wear,1998,22(01):57-71.
[5] 赵振国;吴佩强;羌笛.胶体与界面化学实验[M].北京:北京大学出版社,1993
[6] JOSEPH M S;SHYAM P M;RONALD J G.Chemical mechanical planarization of microelectronic materials[M].New York:John Wiley & Sons,1997
[7] 高濂;孙静;刘阳桥.纳米粉体的分散及表面改性[M].北京:化学工业出版社,2003
[8] 宋晓岚,杨振华,邱冠周,曲选辉.纳米Al2O3颗粒的制备及其悬浮液的分散稳定[J].中南工业大学学报(自然科学版),2003(05):484-488.
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