四氧化二氮对卫星漫反射试片氟化镁涂层的污染和侵蚀

中国腐蚀与防护学报, 2005, 25(2): 70-83. doi: 10.3969/j.issn.1005-4537.2005.02.002

四氧化二氮对卫星漫反射试片氟化镁涂层的污染和侵蚀

舒勇华 ^1, , 刘宏立 ^2, , 樊菁 ^3, , 崔季平 ^4, , 谢冲 ^5,

1.中国科学院力学研究所,高温气体动力学重点实验室,北京,100080

2.中国科学院力学研究所,高温气体动力学重点实验室,北京,100080

3.中国科学院力学研究所,高温气体动力学重点实验室,北京,100080

4.中国科学院力学研究所,高温气体动力学重点实验室,北京,100080

5.中国科学院力学研究所,高温气体动力学重点实验室,北京,100080

基金项目: 中国科学院资助项目(10402042)

关键词： N2O4 , 漫反射试片 , MgF2涂层 , 表面污染

CONTAMINATION AND EROSION OF MAGNESIUM FLUORIDE COATING OF DIFFUSIVE REFLECTION FLAKES BY NITROGEN TETRAOXIDE

利用漫反射率、X射线光电能谱和质谱等测量方法,研究了固态和气态四氧化二氮(N2O4)对漫反射试片氟化镁(MgF2)涂层表面的污染情况.实验表明,固态N2O4对MgF2涂层有严重侵蚀作用,N2O4固粒污染后的涂层表面漫反射率下降了20%～30%.在一定的时间内,气态N2O4对涂层表面的影响显著地依赖它的压力.试片在压力为6.9×104 Pa和200Pa的N2O4蒸气中分别放置10 min,前者厚度为40μm的MgF2涂层基本消失,表面漫反射率下降约20%;后者涂层表面的原子组成和漫反射率变化很小.还给出了MgF2涂层表面N2O4分子吸附摩尔密度,以及与涂层表面碰撞的N2O4分子通过化学吸附过程提取MgF2的几率.

参考文献

[1]	樊菁,刘宏立,蒋建政,彭世镠,沈青.火箭剩余推进剂排放过程的分析与模拟[J].力学学报,2004(02):129-139.
[2]	Chang C S;Hon M H;Yang S J .The optical properties of hot -pressed magnesium fluoride and single crystal magnesium fluoride in the 0.1 to 9μm range[J].Journal of Materials Science,1991,26:1627-1630.
[3]	DeSalvo R;Said A A;Hagan D J;Van Stryland E W, Sheik Bahae M .Infrared to ultraviolet measurements of two- photon absorption in wide bandgap solids[J].IEEE Journal of Oceanic Engineering,1996,32:1324-1333.
[4]	L. Dumas;E. Quesnel;F. Pierre;F. Bertin .Optical properties of magnesium fluoride thin films produced by argon ion-beam assisted deposition[J].Journal of Vacuum Science & Technology, A. Vacuum, Surfaces, and Films,2002(1):102-106.
[5]	刘世宏.X射线光电子能谱分析[M].北京:科学出版社,1988

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