采用Ti/Cu/Ni中间层对Si3N4陶瓷进行二次PTLP连接,研究Ti箔厚度、连接工艺参数对Si3N4/Ti/C/Ni连接强度和界面结构的影响.结果表明:Ti箔厚度对连接强度的影响是通过对反应层厚度的影响体现的;在本文试验条件下,改变二次连接工艺参数对Si3N4/Ti/Cu/Ni二次PTLP连接界面反应层厚度无明显影响,其对室温强度的影响是由于连接接头残余应力的变化所导致的;Si3N4/Ti/Cu/Ni二次PTLP连接界面微观结构为Si3N4/反应层/Cu-Ni固溶体层(少量的Cu-Ni-Ti)/Ni.
参考文献
[1] | TILLMANN W;LUGSCHEIDER E .Heat-resistant active brazing of silicon nitride[J].Welding Journal,1998,77(03):103-109. |
[2] | IINO Y .Partial transient liquid-phase metals layer technique of ceramic-metal bonding[J].Journal of Materials Science Letters,1990,9(10):104-106. |
[3] | 陈铮;赵其章;吴斌 等.Si3N4/Ti/Ni/Ti/Si3N4部分瞬间液相连接接头的强度与断裂[J].中国有色金属学报,1999,9(zk):166-172. |
[4] | 周飞,李志章.Ti/Cu/Ti部分瞬间液相连接Si3N4的界面反应和连接强度[J].中国有色金属学报,2001(02):273-278. |
[5] | G. CECCONE;M. G. NICHOLAS;S. D. PETEVES .AN EVALUATION OF THE PARTIAL TRANSIENT LIQUID PHASE BONDING OF Si_3N_4 USING Au COATED Ni-22Cr FOILS[J].Acta materialia,1996(2):657-667. |
[6] | 张建军,李树杰.非氧化物陶瓷连接技术的进展[J].硅酸盐学报,2002(01):102-107. |
[7] | Chen Zheng;Hongqing Lou;Zhou Fei;Zhezhang Li .Partial transient liquid-phase bonding of Si3N4 with Ti/Cu/Ni interlayers[J].Journal of Materials Science Letters,1997(24):2026-2028. |
[8] | 陈铮;楼宏青;李志章 .Si3N4/Ti/Cu/Ni二次部分瞬间液相连接[J].材料研究学报,1999,13(03):313-315. |
[9] | 邹家生,翟建广,初雅杰,陈铮.Ti箔厚度对Si3N4/Ti/Cu/Ti/Si3N4部分瞬间液相连接界面结构及强度的影响[J].焊接学报,2003(06):19-22. |
[10] | Fuzio Tamai;Masaaki Naka .Microstructure and Strength of Si_3N_4/Si_3N_4 Joints Brazed with Cu-Ti Alloys[J].溶接学会論文集,1996(2):327-332. |
[11] | 邹家生,初雅杰,许志荣,陈铮.Si3N4陶瓷二次部分瞬间液相连接模型[J].航空材料学报,2004(03):43-47. |
[12] | NAKAO Y;NISHIMOTO K;SAIDA K .Reaction layer formation in nitride ceramics(Si3 N4 and AlN) to metal joints bonded with active filler metals[J].Transactions of Japan Welding Society,1989,20(01):66-70. |
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