靶基距对SiC纤维表面钛合金涂层微结构和生长的影响

航空材料学报, 2011, 31(z1): 135-139. doi: 10.3969/j.issn.1005-5053.2011.z1.030

靶基距对SiC纤维表面钛合金涂层微结构和生长的影响

黄浩 ^1, , 文懋 ^2, , 陈大明 ^3, , 李臻熙 ^4, , 黄旭 ^5,

1.北京航空材料研究院,北京,100095

2.吉林大学材料科学系,长春,130021

3.北京航空材料研究院,北京,100095

4.北京航空材料研究院,北京,100095

5.北京航空材料研究院,北京,100095

关键词：靶基距 , PVD , 钛合金

Effect of Distance Between Target and Substrate on Growth and Microstructure for Titanium Alloy Coatings onto SiC Fiber

在SiC纤维表面利用直流磁控溅射PVD(Physical Vapor Deposition)技术沉积钛合金是制备钛基复合材料的重要工艺过程.研究了直流磁控PVD技术在SiC纤维表面沉积钛合金工艺中,靶基距对涂层厚度分布,结构演变,薄膜生长的影响,并通过表面轮廓仪,XRD(X-Ray Diffraction),原子力显微镜对涂层进行表征.结果表明:随着靶基距的减小,涂层均匀性降低,沉积率增加,能量增高,生长模式由V型柱状晶变为等轴柱状晶;柱状晶由多个纳米柱状晶合并形成.

参考文献

[1]	VASSEL A .Continuous fibre reinforced titanimn and aluminum composites, a comparison[J].Matedals Science and Engineering A,1999,263:305-313.
[2]	张国定.金属基复合材料界面问题[J].材料研究学报,1997
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[4]	Yuya Kajikawa;Suguru Noda;Hiroshi Komiyama .Comprehensive perspective on the mechanism of preferred orientation in reactive-sputter-deposited nitrides[J].Journal of Vacuum Science & Technology, A. Vacuum, Surfaces, and Films,2003(6):1943-1954.
[5]	郑伟涛.薄膜材料与薄膜技术[M].北京:化学工业出版社,2004
[6]	Petrov I.;Barna PB.;Hultman L.;Greene JE. .Microstructural evolution during film growth [Review][J].Journal of Vacuum Science & Technology, A. Vacuum, Surfaces, and Films,2003(5 Suppl.s):S117-S128.

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